Pat
J-GLOBAL ID：200903064906565050

パターンとその形成方法、デバイスとその製造方法、電気光学装置、電子機器及びアクティブマトリクス基板の製造方法

Inventor：
平井 利充

About 平井 利充


Applicant, Patent owner：
セイコーエプソン株式会社

About セイコーエプソン株式会社


Agent (3)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004118838
Publication number (International publication number)：2004363561
Application date： Apr. 14, 2004
Publication date： Dec. 24, 2004
Summary：
【課題】 複数の材料を積層してパターンを形成することによって、一種類の材料では得られなかった機能性をパターンに付与する。【解決手段】 機能液を基板上に配置させてパターンを形成する方法であって、上記基板P上に上記パターンの形成領域に応じたバンクBを形成する工程と、上記バンク間34に第1の機能液X1を配置する工程と、配置された上記第1の機能液X1上に第2の機能液X2を配置する工程と、上記バンク間に積層した上記第1の機能液X1と上記第2の機能液X2とに対して所定の処理を施すことによって複数の材料が積層されてなる上記パターン33を形成する工程とを有する。【選択図】 図5
Claim (excerpt)：
機能液を基板上に配置させてパターンを形成する方法であって、 前記基板上に前記パターンの形成領域に応じたバンクを形成する工程と、 前記バンク間に第1の機能液を配置する工程と、 配置された前記第1の機能液上に第2の機能液を配置する工程と、 前記バンク間に積層した前記第1の機能液と前記第2の機能液とに対して所定の処理を施すことによって複数の材料が積層されてなる前記パターンを形成する工程と を有することを特徴とするパターン形成方法。
IPC (10)：
H01L21/3205 ,  B05D5/12 ,  B05D7/00 ,  G09F9/00 ,  H01L21/288 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H05B33/02 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (12)：
H01L21/88 B ,  B05D5/12 B ,  B05D7/00 H ,  G09F9/00 338 ,  H01L21/288 Z ,  H05B33/02 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H01L29/78 627C ,  H01L29/78 617J ,  H01L29/78 616K ,  H01L29/78 612C
F-Term (150)：
2H092GA25 ,  2H092JA24 ,  2H092JA37 ,  2H092JB24 ,  2H092JB33 ,  2H092MA10 ,  2H092MA12 ,  2H092NA16 ,  2H092NA27 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CC00 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  3K007GA00 ,  4D075AE03 ,  4D075CA22 ,  4D075CA36 ,  4D075CA37 ,  4D075CB38 ,  4D075DA04 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB31 ,  4D075DC19 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA10 ,  4D075EB13 ,  4D075EB16 ,  4D075EB22 ,  4D075EB32 ,  4D075EB42 ,  4D075EB49 ,  4D075EC10 ,  4M104BB02 ,  4M104BB04 ,  4M104BB05 ,  4M104BB13 ,  4M104BB14 ,  4M104BB16 ,  4M104BB18 ,  4M104BB28 ,  4M104BB36 ,  4M104CC01 ,  4M104CC05 ,  4M104DD06 ,  4M104DD20 ,  4M104DD22 ,  4M104DD51 ,  4M104DD78 ,  4M104DD80 ,  4M104DD81 ,  4M104GG08 ,  4M104HH01 ,  4M104HH08 ,  4M104HH20 ,  5F033HH00 ,  5F033HH05 ,  5F033HH07 ,  5F033HH11 ,  5F033HH14 ,  5F033HH16 ,  5F033HH17 ,  5F033HH18 ,  5F033HH19 ,  5F033HH20 ,  5F033HH28 ,  5F033HH38 ,  5F033JJ38 ,  5F033KK00 ,  5F033KK07 ,  5F033KK08 ,  5F033KK11 ,  5F033KK13 ,  5F033KK14 ,  5F033KK28 ,  5F033MM01 ,  5F033MM05 ,  5F033MM08 ,  5F033MM19 ,  5F033PP26 ,  5F033QQ00 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ19 ,  5F033QQ53 ,  5F033QQ73 ,  5F033QQ82 ,  5F033QQ83 ,  5F033QQ91 ,  5F033RR06 ,  5F033RR21 ,  5F033RR22 ,  5F033RR24 ,  5F033VV06 ,  5F033VV15 ,  5F033XX05 ,  5F033XX13 ,  5F033XX20 ,  5F033XX21 ,  5F110AA14 ,  5F110AA26 ,  5F110BB02 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110DD12 ,  5F110EE01 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE05 ,  5F110EE15 ,  5F110EE23 ,  5F110EE37 ,  5F110EE42 ,  5F110EE47 ,  5F110FF03 ,  5F110FF30 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110GG45 ,  5F110HK01 ,  5F110HK02 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110HK22 ,  5F110HK32 ,  5F110HK35 ,  5F110HK41 ,  5F110HL07 ,  5F110HM02 ,  5F110HM19 ,  5F110NN02 ,  5F110NN16 ,  5F110NN22 ,  5F110NN24 ,  5F110NN71 ,  5F110NN72 ,  5F110NN73 ,  5F110QQ09 ,  5G435AA17 ,  5G435BB06 ,  5G435BB12 ,  5G435CC09 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (3)

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