Pat
J-GLOBAL ID：200903064931227223

電子線照射装置、電子線照射方法、ディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法

Inventor：
宇佐美 守

About 宇佐美 守

, 
田中 和志

About 田中 和志

, 
米山 健司

About 米山 健司

, 
金子 幸生

About 金子 幸生

, 
梅香 毅

About 梅香 毅


Applicant, Patent owner：
TDK株式会社

About TDK株式会社


Agent (2)： 田村 敬二郎 ,  小林 研一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002274120
Publication number (International publication number)：2004110967
Application date： Sep. 19, 2002
Publication date： Apr. 08, 2004
Summary：
【課題】紫外線照射では硬化が困難である材料をも容易に硬化できる電子線照射装置及び電子線照射方法を提供する。また、紫外線照射では硬化が困難である材料による潤滑層等をディスク状体上に効率よく形成できるようにしたディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法を提供する。【解決手段】この電子線照射装置1は、被回転体2を回転駆動する回転駆動部17と、被回転体を回転可能に収容する遮蔽容器10と、被回転体の表面に対し電子線がその照射窓11aから照射されるように遮蔽容器に設けられた電子線照射部11とを具備し、被回転体の回転中にその表面に電子線照射部の照射窓から電子線を照射する。これにより、回転中の被回転体の表面に対し紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を効率よく照射できる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
被回転体を回転駆動する回転駆動部と、前記被回転体を回転可能に収容する遮蔽容器と、前記被回転体の表面に対し電子線がその照射窓から照射されるように前記遮蔽容器に設けられた電子線照射部と、を具備し、前記被回転体の回転中にその表面に前記電子線照射部の照射窓から電子線を照射することを特徴とする電子線照射装置。
IPC (4)：
G11B7/26 ,  G21K5/00 ,  G21K5/04 ,  G21K5/10
FI (5)：
G11B7/26 531 ,  G21K5/00 B ,  G21K5/00 C ,  G21K5/04 E ,  G21K5/10 T
F-Term (10)：
5D121AA04 ,  5D121EE23 ,  5D121EE28 ,  5D121EE29 ,  5D121GG02 ,  5D121GG20 ,  5D121GG28 ,  5D121JJ03 ,  5D121JJ04 ,  5D121JJ09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (17)
  • 電子ビーム装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-093796   Applicant：富士通株式会社
  • 電子線照射方法および架橋または硬化方法、ならびに電子線照射物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-336295   Applicant：東洋インキ製造株式会社
  • 特開平2-243393
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM