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J-GLOBAL ID:200903065070382504

ゲル電解質膜の製造方法及びゲル電解質二次電池の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003146380
Publication number (International publication number):2004349159
Application date: May. 23, 2003
Publication date: Dec. 09, 2004
Summary:
【課題】含有する有機溶剤の量を制御できるゲル電解質膜の製造方法、及びしわ等を抑制できる巻回型のゲル電解質二次電池を製造する方法を提供すること。【解決手段】本発明のゲル電解質膜の製造方法は、多孔質膜の一面側に第1シート状部材を重ね合わせた後、液体状のゲル電解質素材を多孔質膜の他面側に塗布・浸透させる塗布工程と、多孔質膜の他面側に帯状の第2シート部材を重ね合わせた後、ゲル電解質膜に加工するゲル化工程と、を有する。つまり、ゲル電解質素材の両面にシート部材を重ね合わせることで、有機溶剤が蒸発することを防止できる。更に、本発明のゲル電解質二次電池の製造方法は、電極体形成工程において、巻回する前に、液体状のゲル電解質素材を正負極等の表面に塗布する塗布ステップをもつ。つまり、液体状のゲル電解質素材をゲル電解質膜と正負極との間に介在させることで潤滑剤としての作用を発揮し、しわ等の発生を抑制する。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
帯状の多孔質膜の一面側に帯状の第1シート状部材を重ね合わせた後、有機溶剤とゲル素材との混合物である液体状のゲル電解質素材を該多孔質膜の他面側に塗布・浸透させる塗布工程と、 該多孔質膜の他面側に帯状の第2シート部材を重ね合わせた後に、該ゲル電解質素材をゲル電解質膜に加工するゲル化工程と、を有することを特徴とするゲル電解質膜の製造方法。
IPC (2):
H01M10/40 ,  H01B13/00
FI (2):
H01M10/40 B ,  H01B13/00 Z
F-Term (17):
5H029AJ14 ,  5H029AK03 ,  5H029AK19 ,  5H029AL06 ,  5H029AL07 ,  5H029AM02 ,  5H029AM03 ,  5H029AM04 ,  5H029AM05 ,  5H029AM07 ,  5H029AM16 ,  5H029BJ02 ,  5H029BJ14 ,  5H029CJ07 ,  5H029CJ11 ,  5H029CJ13 ,  5H029CJ22
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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