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J-GLOBAL ID：200903065089190428

レジスト材料及びパターン形成方法

Inventor： 畠山 潤 ,  小林 知洋 ,  渡辺 修 ,  武田 隆信 ,  石原 俊信 ,  渡辺 淳
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000061014
Publication number (International publication number)：2000347412
Application date： Mar. 06, 2000
Publication date： Dec. 15, 2000
Summary：

【要約】【解決手段】 フェノール誘導体のデンポリマー又はハイパーブランチポリマーからなる重量平均分子量が500〜10,000,000の高分子化合物をベースポリマーとして含むことを特徴とするレジスト材料。【効果】 本発明のレジスト材料は、十分な解像力を有し、ラインエッジラフネスが小さく、優れた耐ドライエッチング性を有し、化学増幅型レジスト材料として有効であり、またこの場合、ポジ型のみでなく、ネガ型に用いても優れた解像度を与える。

Claim (excerpt)：

フェノール誘導体のデンポリマー又はハイパーブランチポリマーからなる重量平均分子量が500〜10,000,000の高分子化合物をベースポリマーとして含むことを特徴とするレジスト材料。

IPC (7)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 2/06 ,  C08F212/14 ,  C08J 3/24 CER ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027 ,  C08L 25:18

FI (6)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 2/06 ,  C08F212/14 ,  C08J 3/24 CER Z ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (68)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB55 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4F070AA17 ,  4F070AB02 ,  4F070AB09 ,  4F070AB12 ,  4F070AB22 ,  4F070AC63 ,  4F070AE08 ,  4F070GA04 ,  4F070GB05 ,  4F070GB09 ,  4F070GC09 ,  4J011AA05 ,  4J011BB01 ,  4J011BB02 ,  4J011DA04 ,  4J011HA04 ,  4J011HB02 ,  4J011HB22 ,  4J011PA65 ,  4J011PB40 ,  4J011PC02 ,  4J011QA19 ,  4J011RA10 ,  4J011RA11 ,  4J011RA15 ,  4J011RA17 ,  4J011TA10 ,  4J011UA03 ,  4J011UA08 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA12Q ,  4J100BA22Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA23 ,  4J100CA31 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA39 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100HA53 ,  4J100HD00 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 感放射線性樹脂材料及び感放射線性塗布組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-092124   Applicant：三菱化学株式会社
• フェノール系デンドリマー化合物およびそれを含む感放射線性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-136066   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• パターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-186952   Applicant：信越化学工業株式会社
• ネガ型感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-074716   Applicant：ジェイエスアール株式会社