t-ブチルシンナメート重合体およびそのフォトレジスト組成物における使用

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：高木千嘉 , 西村公佑 , 杉本博司
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002512742
Publication number (International publication number)：2004504632
Application date： Jun. 15, 2001
Publication date： Feb. 12, 2004
Summary：

t-ブチルシンナメートの重合体、光酸発生剤および溶媒を含むレジスト組成物。場合により本レジスト組成物は、塩基性化合物を包含することができる。t-ブチルシンナメートの重合体は、単量体単位(I)(ここで、a=0.3ないし0.9であり、b=0.1ないし0.7であり、そしてc=0ないし0.3であり;R1=H、メチルまたはCH2OR4であり;R4=HまたはC1-C4アルキル基であり;R2=H、メチル、CH2OR4、CH2CNまたはCH2Xであり;X=Cl、I、Br、FまたはCH2COOR5であり;R5=C1-C4アルキル基であり;そしてR3=イソボルニル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、ベンジルまたはフェネチルである)を有する。

Claim (excerpt)：

単量体単位:

IPC (5)：

G03F7/039 , C08F212/14 , C08F220/12 , G03F7/004 , H01L21/027

FI (5)：

G03F7/039 601 , C08F212/14 , C08F220/12 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R

F-Term (44)：

2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB17 , 2H025CB45 , 2H025CC03 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 2H025FA41 , 4J100AB04T , 4J100AB07P , 4J100AB07S , 4J100AB07T , 4J100AL08R , 4J100AL19Q , 4J100AL26R , 4J100AL31R , 4J100AL39R , 4J100AL46R , 4J100AM01R , 4J100BA02T , 4J100BA03P , 4J100BA04S , 4J100BA15T , 4J100BB00S , 4J100BC04R , 4J100BC07R , 4J100BC43R , 4J100CA03 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-134178 Applicant：日本合成ゴム株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-052637 Applicant：日本合成ゴム株式会社
フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-079033 Applicant：住友化学工業株式会社

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