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J-GLOBAL ID:200903011390782249
感放射線性樹脂組成物
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996134178
Publication number (International publication number):1997297396
Application date: May. 02, 1996
Publication date: Nov. 18, 1997
Summary:
【要約】【課題】 特に、コンタクトホールの解像度、断面形状およびフォーカス許容性に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 組成物は、(A)酸により分解しうるアセタール基、酸により分解しうるケタール基および酸により分解しうるt-ブチル基をもつ置換基の群から選ばれる少なくとも1種の基を有する重合体、(B)感放射線性酸発生剤、(C)フェノール性水酸基を有する分子量1,000未満の化合物のアセタール化誘導体および/またはケタール誘導体、並びに(D)酸拡散制御剤を含有する。
Claim (excerpt):
(A)酸により分解しうるアセタール基、酸により分解しうるケタール基および酸により分解しうるt-ブチル基をもつ置換基の群から選ばれる少なくとも1種の基を有する重合体、(B)感放射線性酸発生剤、(C)フェノール性水酸基を有する分子量1,000未満の化合物中のフェノール性水酸基の水素原子を、式-C(R1)(R2)OR3(式中、R1は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜10のアリール基もしくは炭素数7〜11のアラルキル基を示し、R2およびR3はそれぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜10のアリール基もしくは炭素数7〜11のアラルキル基を示すか、またはR1が水素原子であるとき、R2とR3が互いに結合して5〜7員環を形成し、あるいはR1が水素原子以外の基であるとき、R1、R2およびR3のいずれか2つが互いに結合して5〜7員環を形成している。)で表される基で置換した化合物、並びに(D)酸拡散制御剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (12):
G03F 7/004 501
, C08K 5/06 KAP
, C08K 5/13 KAU
, C08K 5/15 KAW
, C08K 5/17 KAY
, C08K 5/20 KBA
, C08K 5/41 KBU
, C08L 25/18 KFY
, C08L 33/04 LHW
, G03F 7/039 501
, H05K 3/00
, H05K 3/46
FI (12):
G03F 7/004 501
, C08K 5/06 KAP
, C08K 5/13 KAU
, C08K 5/15 KAW
, C08K 5/17 KAY
, C08K 5/20 KBA
, C08K 5/41 KBU
, C08L 25/18 KFY
, C08L 33/04 LHW
, G03F 7/039 501
, H05K 3/00 F
, H05K 3/46 N
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-268112
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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感放射線性混合物およびそれを用いるレリーフ構造体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-026495
Applicant:ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-285187
Applicant:日本ゼオン株式会社
-
レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-285186
Applicant:日本ゼオン株式会社
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ジ又はトリフェニルモノテルペン炭化水素誘導体、溶解制御剤及び化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-113197
Applicant:信越化学工業株式会社
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化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-104590
Applicant:信越化学工業株式会社
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化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-266776
Applicant:信越化学工業株式会社
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-019001
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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