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J-GLOBAL ID：200903042896435540

感放射線性樹脂組成物

Inventor：
田辺 隆喜

About 田辺 隆喜

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桜井 明彦

About 桜井 明彦

, 
夏目 紀浩

About 夏目 紀浩

, 
辻 昭

About 辻 昭


Applicant, Patent owner：
日本合成ゴム株式会社

About 日本合成ゴム株式会社


Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996052637
Publication number (International publication number)：1997222724
Application date： Feb. 16, 1996
Publication date： Aug. 26, 1997
Summary：
【要約】【課題】 定在波の影響が少なく、フォーカス許容性に優れ、且つ感度、解像度、パターン形状、プロセス許容性等を含めた特性バランスに優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 組成物は、(A)酸により分解しうるアセタール基、酸により分解しうるケタール基および酸により分解しうるt-ブチル基をもつ置換基の群から選ばれる官能基を有する重合体、(B)感放射線性酸発生剤並びに(C)フェノール性水酸基、アルコール性水酸基およびエチレンオキサイド鎖の群から選ばれる官能基を有する分子量1,000以下の化合物を含有する。
Claim (excerpt)：
(A)酸により分解しうるアセタール基、酸により分解しうるケタール基および酸により分解しうるt-ブチル基をもつ置換基の群から選ばれる少なくとも1種の基を有する重合体、(B)感放射線性酸発生剤、並びに(C)フェノール性水酸基、アルコール性水酸基およびエチレンオキサイド鎖の群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有する分子量1,000以下の化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (4)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (17)
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