薄膜エピタキシャルウェ-ハおよびその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：安倍逸郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997026102
Publication number (International publication number)：1998209054
Application date： Jan. 24, 1997
Publication date： Aug. 07, 1998
Summary：

【要約】【課題】電気的特性が向上し、かつ製造時の歩留りも大きい薄膜エピタキシャルウェーハおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 COPが表面に存在しないか、個数が少ない単結晶シリコン基板を作製する。例えばCZシリコン基板表面に常圧エピ層(0.4μm)を形成しておく。この常圧エピ層の上に、減圧下で薄膜エピ層(4.0μm)を積層する。常圧エピ層ではCOPは消失しており、薄膜エピ層表面でのCOPは消失する。よって、COPを原因とした単結晶基板の欠陥が解消されたり小さくなり、薄膜エピウェーハの電気特性の向上が図れ、しかも製造時の歩留りも大きくなる。

Claim (excerpt)：

単結晶シリコン基板と、この単結晶シリコン基板上に設けられ、COPがその表面に存在しない薄膜のエピタキシャル層と、を備えた薄膜エピタキシャルウェーハ。

IPC (3)：

H01L 21/205 , C30B 29/06 , H01L 21/20

FI (3)：

H01L 21/205 , C30B 29/06 A , H01L 21/20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

シリコンウェーハの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-181715 Applicant：三菱マテリアル株式会社, 三菱マテリアルシリコン株式会社
COPを低減した張り合わせ半導体基板およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-209294 Applicant：三菱マテリアルシリコン株式会社, 三菱マテリアル株式会社
特開平3-233936

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