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J-GLOBAL ID：200903065505490681

感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

Inventor：
水谷 一良

About 水谷 一良

, 
川西 安大

About 川西 安大


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (4)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005075494
Publication number (International publication number)：2006259136
Application date： Mar. 16, 2005
Publication date： Sep. 28, 2006
Summary：
【課題】 IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造などに使用される、感度、解像力及びデフォーカスラチィチュード(DOF)に優れた感光性組成物、感光性組成物に用いる化合物及び感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 一般式(I)で表される化合物を含有する。一般式(I)において、 Arは芳香環を表し、置換基として-Q-SO2Ra基もしくは-Q-CORbで表される基を有する。 Rはアルキル基又はアリール基を表す。 Qは酸素又は-N(Ry)-を表す。 Xは、単結合もしくは2価の連結基を表す。 Yはアニオンを示す。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
一般式(I)で表される化合物(A)を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (4)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (14)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB03 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 米国特許第6548221号明細書
Cited by examiner (4)
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