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J-GLOBAL ID：200903065855892880

位置ずれ検査装置の光学的収差測定方法並びに位置ずれ検査方法

Inventor：
星 賢治

About 星 賢治

, 
河村 栄一

About 河村 栄一


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社


Agent (1)： 北野 好人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999221025
Publication number (International publication number)：2000146528
Application date： Aug. 04, 1999
Publication date： May. 26, 2000
Summary：
【要約】【課題】 TISの主な要因であるテレセントずれとコマ収差とを個別に評価することができる位置ずれ検査装置の光学的収差測定方法を提供する。【解決手段】 突起又は溝からなる第1及び第2の検査マークを有する基準サンプル10aを用意し、位置ずれ検査装置のステージ上に載置する。第1及び第2の検出マーク32、33の高さは照射光の波長に応じて決定する。基準サンプル10aに波長がλの光を照射し、撮像装置(CCDカメラ)の焦点位置を移動させて各焦点位置における第1及び第2の検査マーク32、33を検出する。そして、信号処理部で信号処理を行って、第1及び第2の検査マーク32、33の間の間隔を測定しTISを計算する。焦点位置とTISとの関係から、テレセントずれの影響とコマ収差の影響とを個別に評価することができる。
Claim (excerpt)：
突起又は溝からなる第1及び第2の検査マークを有する基準サンプルに波長λの光を照射し、前記第1及び第2の検査マークにより反射される光を撮像装置により撮像し、取得した画像に基づいて前記第1及び第2の検査マークの間の第1の位置ずれ量を計測する工程と、前記基準サンプルを180度回転した後、前記基準サンプルに波長λの光を照射し、前記第1及び第2の検査マークにより反射される光を前記撮像装置により撮像し、取得した画像に基づいて前記第1及び第2の検査マークの間の第2の位置ずれ量を計測する工程と、前記第1及び第2の位置ずれ量から前記位置ずれ検査装置の光学的収差を算出する工程とを有する位置ずれ検査装置の光学的収差測定方法であって、前記第1及び第2の位置ずれ量を計測する工程は、いずれも前記撮像装置の焦点位置を前記第1及び第2の検査マークの高さ又は深さ方向に移動して各焦点位置における映像を撮像する工程を含むことを特徴とする位置ずれ検査装置の光学的収差測定方法。
IPC (2)：
G01B 11/00 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G01B 11/00 H ,  H01L 21/30 516 A
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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