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J-GLOBAL ID:200903073818569443
光学系の検査装置および該検査装置を備えた投影露光装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山口 孝雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995222677
Publication number (International publication number):1997049781
Application date: Aug. 08, 1995
Publication date: Feb. 18, 1997
Summary:
【要約】【課題】 実使用状態での光学系の収差状態および光学調整状態を再現性良く検査し、更に効率良く収差補正および光学調整を行う。【解決手段】 光学系の収差状態および光学調整状態を検査する検査装置において、光学系を介して形成されたパターンの像を検出するための像検出手段と、像検出手段において検出されるパターンの像をデフォーカスさせるためのデフォーカス手段と、像検出手段において各デフォーカス状態で検出されたパターンの像の位置変化に基づいて光学系の収差状態および光学調整状態を検査するための検査手段と、を備えている。
Claim (excerpt):
光学系の収差状態および光学調整状態を検査する検査装置において、前記光学系を介して形成されたパターンの像を検出するための像検出手段と、前記像検出手段において検出される前記パターンの像をデフォーカスさせるためのデフォーカス手段と、前記像検出手段において各デフォーカス状態で検出された前記パターンの像の位置変化に基づいて前記光学系の収差状態および光学調整状態を検査するための検査手段と、を備えていることを特徴とする検査装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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収差計測方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-264660
Applicant:株式会社ニコン
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光投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-280372
Applicant:株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社
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露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-173780
Applicant:株式会社ニコン
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特開平3-154325
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投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-196908
Applicant:キヤノン株式会社
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投影光学系の検査方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-306764
Applicant:株式会社ニコン
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重ね合せ精度測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-242680
Applicant:日本電気株式会社
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特開昭62-038303
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レーザー加工装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-024023
Applicant:株式会社ニコン
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位置検出装置及び該装置を備えた投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-020325
Applicant:株式会社ニコン
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収差測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-079146
Applicant:株式会社ニコン
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特開平4-015535
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