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J-GLOBAL ID：200903065901894167

ダイアモンドを被覆した電極を使用してペルオクソ二硫酸を電気化学的に製造する方法

Inventor： クリストス コムニネリス ,  ピエール-ア ミショー ,  ヴェルナー ヘニ ,  アンドレ ペレ ,  マティアス フリダ
Applicant, Patent owner： フラウンホーファー-ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ ,  セ エス エ エム サントル スイス デレクトロニク エ ド ミクロテクニク ソシエテ アノニム
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外4名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001528231
Publication number (International publication number)：2003511555
Application date： Oct. 04, 2000
Publication date： Mar. 25, 2003
Summary：

【要約】本発明はペルオクソ二硫酸およびペルオクソ二硫酸塩の電気化学的製造方法に関し、アノードとして有利には完全に予備極性化されていない電極を使用し、電極はドープしたダイアモンド層を備えている。

Claim (excerpt)：

硫酸の電気化学的酸化によりペルオクソ二硫酸およびペルオクソ二硫酸塩を電気化学的に製造する方法において、アノード(5)としてドープしたダイアモンド層(3)を有する電極を使用することを特徴とするペルオクソ二硫酸およびペルオクソ二硫酸塩を電気化学的に製造する方法。

IPC (4)：

C25B 1/30 ,  C25B 11/02 ,  C25B 11/04 ,  C25B 11/06

FI (4)：

C25B 1/30 ,  C25B 11/02 ,  C25B 11/04 A ,  C25B 11/06 Z

F-Term (21)：

4K011AA04 ,  4K011AA10 ,  4K011AA21 ,  4K011AA24 ,  4K011AA25 ,  4K011AA29 ,  4K011CA03 ,  4K011CA04 ,  4K011DA10 ,  4K021AB15 ,  4K021BA04 ,  4K021BB03 ,  4K021BC09 ,  4K021DB05 ,  4K021DB11 ,  4K021DB12 ,  4K021DB14 ,  4K021DB15 ,  4K021DB18 ,  4K021DB21 ,  4K021DC11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭55-034700
  
• 不溶性金属電極の製造方法及び該電極を使用する電解槽
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-090774   Applicant：ペルメレック電極株式会社
• 電解用電極及び該電極を使用する電解槽
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-106379   Applicant：ペルメレック電極株式会社
• ダイヤモンド電極
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-163561   Applicant：株式会社神戸製鋼所

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Electrolysis by Using Diamond Thin Film Electrodes