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J-GLOBAL ID:200903066021103132
磁気抵抗効果素子、磁気抵抗効果ヘッド、磁気記憶装置、および磁気メモリ
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (4):
須山 佐一
, 川原 行雄
, 山下 聡
, 須山 英明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005285240
Publication number (International publication number):2007096105
Application date: Sep. 29, 2005
Publication date: Apr. 12, 2007
Summary:
【課題】スピントランスファートルクに起因するノイズの低減を図った磁気抵抗効果素子、磁気抵抗効果ヘッド、磁気記憶装置、および磁気メモリを提供する。【解決手段】磁化固着層、非磁性層、磁化自由層を有する磁気抵抗効果素子の磁化固着層、または磁化自由層内にZr,Nb,Mo,Ru,Rh,Pd,Ag,La,Hf,Ta,W,Re,Os,Ir,Pt,Auのいずれかを含む層を配置する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
磁化方向が実質的に一方向に固着される磁化固着層と、
前記磁化固着層上に配置され、絶縁層と、この絶縁層の層方向に電流を通過させる導電体と、を有する非磁性層と、
前記非磁性層上に配置され、かつ磁化方向が外部磁界によって変化する磁化自由層と、
前記磁化固着層、または前記磁化自由層の少なくとも一方に配置され、Zr,Nb,Mo,Ru,Rh,Pd,Ag,La,Hf,Ta,W,Re,Os,Ir,Pt,Auのいずれかを含み、かつ厚さが0.1nm以上、1nm以下の所定の層と、
を具備することを特徴とする磁気抵抗効果素子。
IPC (9):
H01L 43/08
, H01L 21/824
, H01L 27/105
, G11B 5/39
, H01F 10/32
, H01F 10/16
, H01F 10/30
, G01R 33/09
, H01L 43/10
FI (9):
H01L43/08 M
, H01L27/10 447
, H01L43/08 Z
, G11B5/39
, H01F10/32
, H01F10/16
, H01F10/30
, G01R33/06 R
, H01L43/10
F-Term (20):
2G017AA01
, 2G017AB07
, 2G017AD55
, 2G017AD65
, 5D034BA04
, 5D034BA15
, 5D034BA21
, 5D034CA04
, 5D034CA08
, 5E049AA01
, 5E049AA04
, 5E049BA06
, 5E049BA25
, 5E049DB11
, 5E049DB12
, 5F083FZ10
, 5F083GA12
, 5F083JA36
, 5F083JA37
, 5F083JA39
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (6)
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