殺菌ガス浸透装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：矢野寿一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007022212
Publication number (International publication number)：2008188043
Application date： Jan. 31, 2007
Publication date： Aug. 21, 2008
Summary：

【課題】オゾンガスを用いた殺菌ガス浸透装置において、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物の殺菌処理を効率よく行うことができる装置を提供する。【解決手段】被殺菌処理対象物を内部に収納する殺菌庫1と、殺菌庫1内に殺菌ガスを供給する機構3と、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物に殺菌ガスを浸透させる機構とを有するオゾンガスを用いた殺菌ガス浸透装置において殺菌庫1内のオゾン濃度を検知する機構4と、その検知結果に基づいて該オゾン濃度を制御する機構6と、その制御状況を出力する制御状況出力手段14とを設けた。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被殺菌処理対象物を内部に収納する殺菌庫と、殺菌庫内に殺菌ガスを供給する機構と、内部にガスが浸透しにくい被殺菌処理対象物に殺菌ガスを浸透させる機構とを有するオゾンガスを用いた殺菌ガス浸透装置において、殺菌庫内のオゾン濃度を検知する機構と、その検知結果に基づいて該オゾン濃度を制御する機構と、その制御状況を出力する制御状況出力手段とを設けたことを特徴とする殺菌ガス浸透装置。

IPC (1)：

A61L 2/20

FI (2)：

A61L2/20 C , A61L2/20 J

F-Term (11)：

4C058AA03 , 4C058BB07 , 4C058DD01 , 4C058DD03 , 4C058DD05 , 4C058DD06 , 4C058DD13 , 4C058DD14 , 4C058DD16 , 4C058JJ14 , 4C058JJ29

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

高圧蒸気滅菌装置及び高圧蒸気滅菌方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-357050 Applicant：日本金属工業株式会社, 株式会社ニッセン

Cited by examiner (7)

オゾンを用いた滅菌方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-085964 Applicant：三浦工業株式会社, 株式会社三浦研究所
半導体センサモジュールを用いた滅菌プロセスのモニタリングおよび制御
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平10-504511 Applicant：アメリカンステリライザーカンパニー
オゾン発生装置及びこの装置を内蔵した自動販売機
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-316418 Applicant：豊国工業株式会社

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