位相回復法を用いたX線集光方法及びその装置

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006357566
Publication number (International publication number)：2008164553
Application date： Dec. 28, 2006
Publication date： Jul. 17, 2008
Summary：

【課題】波動光学理論に基づく位相回復法を利用し、実際の評価で使用する硬X線を用いてミラーにより集光された集光ビームの強度分布を用いることで、ミラー上の位相誤差分布、即ち、形状誤差を求めるX線波面計測法を提案し、それを利用してX線集光光学系を最適に調節する位相回復法を用いたX線集光方法及びその装置を提案する。【解決手段】反射X線の波面を微調節可能な波面調節能を有するX線ミラーを備え、焦点近傍でのX線強度分布を測定し、X線ミラー近傍でのX線強度分布を測定し若しくは入射X線の既知のX線強度分布を用い、焦点近傍でのX線強度分布と反射面近傍でのX線強度分布から位相回復法を用いて反射面での複素振幅分布を算出し、この複素振幅分布からX線集光光学系の波面収差を算出し、この算出した波面収差を最小にするように波面調節能にてX線ミラーの反射面を制御する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

超精密な反射面を有する単又は複数枚のX線ミラーでX線を反射させて集光するX線集光方法において、前記X線ミラーのうちの一つが反射面で反射されたX線の波面を微調節可能な波面調節能を有し、焦点近傍での光軸に垂直な平面におけるX線強度分布を測定するとともに、X線ミラーの反射面近傍での光軸に垂直な平面におけるX線強度分布を測定し若しくは入射X線の既知のX線強度分布を用い、焦点近傍でのX線強度分布と反射面近傍でのX線強度分布から位相回復法を用いて反射面での複素振幅分布を算出し、この複素振幅分布からX線集光光学系の波面収差を算出し、この算出した波面収差を最小にするように前記波面調節能にてX線ミラーの反射面を制御することを特徴とする位相回復法を用いたX線集光方法。

IPC (6)：

G21K 1/06 , H01L 21/027 , G02B 5/10 , G21K 7/00 , G01N 23/207 , G01N 23/223

FI (9)：

G21K1/06 M , G21K1/06 B , G21K1/06 D , G21K1/06 P , H01L21/30 531A , G02B5/10 B , G21K7/00 , G01N23/207 , G01N23/223

F-Term (21)：

2G001AA01 , 2G001BA04 , 2G001BA18 , 2G001CA01 , 2G001GA09 , 2H042DA08 , 2H042DA12 , 2H042DB02 , 2H042DD07 , 2H042DD11 , 2H042DE00 , 5F046BA05 , 5F046CB02 , 5F046CB03 , 5F046DA01 , 5F046DA13 , 5F046DB05 , 5F046GA06 , 5F046GA14 , 5F046GB01 , 5F046GC04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

X線顕微鏡用光学装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-069613 Applicant：キヤノン株式会社
特許第3634550号公報
特許第3774588号公報

Cited by examiner (1)

露光方法及び露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-318163 Applicant：株式会社日立製作所

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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