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J-GLOBAL ID:200903066949290960

滅菌システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (10): 前田 弘 ,  小山 廣毅 ,  竹内 宏 ,  嶋田 高久 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  藤田 篤史 ,  二宮 克也 ,  原田 智雄 ,  井関 勝守
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005112584
Publication number (International publication number):2006288647
Application date: Apr. 08, 2005
Publication date: Oct. 26, 2006
Summary:
【課題】 処理空間(2)内を過酸化水素で処理する滅菌システムにおいて、処理空間(2)内における過酸化水素の濃度を均一化し、それによって処理空間(2)全体として均一な滅菌能力が得られるようにするとともに、装置のコストアップも防止する。【解決手段】 過酸化水素を発生する過酸化水素発生器(51)と、この過酸化水素発生器(51)で発生した過酸化水素を滅菌対象となる処理空間(2)へ導入する導入通路(20)とを備えた滅菌システムにおいて、空気を減湿する除湿器(52)を設ける。また、導入通路(20)が、除湿器(52)を通った空気を処理空間(2)へ導入する空気導入通路(21)と、除湿器(52)と処理空間(2)との間で過酸化水素発生器(51)と空気導入通路(21)とに接続された過酸化水素導入通路(22)とを含む構成にする。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
過酸化水素を発生する過酸化水素発生器(51)と、該過酸化水素発生器(51)で発生した過酸化水素を滅菌対象となる処理空間(2)へ導入する導入通路(20)とを備えた滅菌システムであって、 空気を減湿する除湿器(52)を備え、 上記導入通路(20)には、上記除湿器(52)を通った空気を処理空間(2)へ導入する空気導入通路(21)と、上記除湿器(52)と処理空間(2)との間で過酸化水素発生器(51)と空気導入通路(21)とを接続する過酸化水素導入通路(22)とが含まれていることを特徴とする滅菌システム。
IPC (2):
A61L 2/20 ,  B01D 53/26
FI (2):
A61L2/20 G ,  B01D53/26 101B
F-Term (19):
4C058AA24 ,  4C058BB07 ,  4C058DD01 ,  4C058DD02 ,  4C058DD03 ,  4C058DD04 ,  4C058DD20 ,  4C058JJ16 ,  4C058JJ29 ,  4D052AA02 ,  4D052CB00 ,  4D052DA06 ,  4D052DB01 ,  4D052FA01 ,  4D052GA01 ,  4D052GA03 ,  4D052GB01 ,  4D052GB02 ,  4D052GB03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 滅菌装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-172659   Applicant:澁谷工業株式会社
Cited by examiner (3)
  • 高容量フラッシュ蒸気発生システム
    Gazette classification:公表公報   Application number:特願2002-565640   Applicant:ステリスインコーポレイテッド
  • 除湿空調システム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-208334   Applicant:ムンタース株式会社, 東京瓦斯株式会社
  • ドライルーム設備
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-343762   Applicant:日立プラント建設株式会社

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