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J-GLOBAL ID:200903067181096139
GaN電界効果トランジスタ
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
雨宮 正季
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999347307
Publication number (International publication number):2001168111
Application date: Dec. 07, 1999
Publication date: Jun. 22, 2001
Summary:
【要約】【課題】 短チャネル効果を抑制し、高耐圧のGaN電界効果トランジスタを提供する。【解決手段】 GaNチャネル層2上にソース電極3、ゲート電極4およびドレイン電極5を形成したGaN電界効果トランジスタにおいて、前記チャネル層の下にp型GaN層7を形成し、前記チャネル層を前記p型GaN層上層とゲート電極で挟む構成としたことを特徴とする。【効果】 高周波、高出力用GaN電界効果トランジスタが実現できる。
Claim (excerpt):
GaNチャネル層上にソース電極、ゲート電極およびドレイン電極を形成したGaN電界効果トランジスタにおいて、前記チャネル層の下にp型GaN層を形成し、前記チャネル層を前記p型GaN層上層とゲート電極で挟む構成としたことを特徴とするGaN電界効果トランジスタ。
IPC (2):
H01L 21/338
, H01L 29/812
F-Term (12):
5F102FA00
, 5F102FA01
, 5F102GB01
, 5F102GC01
, 5F102GD01
, 5F102GJ10
, 5F102GK04
, 5F102GL04
, 5F102GL08
, 5F102GM04
, 5F102GT03
, 5F102HC01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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電界効果トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-103002
Applicant:古河電気工業株式会社
-
ショットキー接合形FET
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-207350
Applicant:沖電気工業株式会社
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