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J-GLOBAL ID:200903067181096139

GaN電界効果トランジスタ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 雨宮 正季
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999347307
Publication number (International publication number):2001168111
Application date: Dec. 07, 1999
Publication date: Jun. 22, 2001
Summary:
【要約】【課題】 短チャネル効果を抑制し、高耐圧のGaN電界効果トランジスタを提供する。【解決手段】 GaNチャネル層2上にソース電極3、ゲート電極4およびドレイン電極5を形成したGaN電界効果トランジスタにおいて、前記チャネル層の下にp型GaN層7を形成し、前記チャネル層を前記p型GaN層上層とゲート電極で挟む構成としたことを特徴とする。【効果】 高周波、高出力用GaN電界効果トランジスタが実現できる。
Claim (excerpt):
GaNチャネル層上にソース電極、ゲート電極およびドレイン電極を形成したGaN電界効果トランジスタにおいて、前記チャネル層の下にp型GaN層を形成し、前記チャネル層を前記p型GaN層上層とゲート電極で挟む構成としたことを特徴とするGaN電界効果トランジスタ。
IPC (2):
H01L 21/338 ,  H01L 29/812
F-Term (12):
5F102FA00 ,  5F102FA01 ,  5F102GB01 ,  5F102GC01 ,  5F102GD01 ,  5F102GJ10 ,  5F102GK04 ,  5F102GL04 ,  5F102GL08 ,  5F102GM04 ,  5F102GT03 ,  5F102HC01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 電界効果トランジスタ
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-103002   Applicant:古河電気工業株式会社
  • ショットキー接合形FET
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-207350   Applicant:沖電気工業株式会社

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