露光方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001363133
Publication number (International publication number)：2003163156
Application date： Nov. 28, 2001
Publication date： Jun. 06, 2003
Summary：

【要約】【課題】スキャン露光装置を用いて、下層のパターンに重ね合わせて上層のパターンを形成する際、重ね合わせ精度向上を図る。【解決手段】使用される各露光装置について、パイロットウエハに、各ショット領域内にスキャン方向に4つ以上,且つステップ方向に4つ以上マトリクス配列形成された、複数のマークの位置情報を検出するステップと、被重ね合わせ層の露光時に用いたスキャン露光装置から得られたマークの位置情報と、重ね合わせ層の露光に用いるスキャン露光装置から得られたマークの位置情報との各座標成分の差分を演算するステップと、演算された差分から、レンズ収差をそれぞれ表すパラメータを求めるステップと、求められたパラメータより得られる補正パラメータに基づいて前記重ね合わせ層の露光を行う。

Claim (excerpt)：

レチクルが載置されたレチクルステージとウエハが載置されたウエハステージとを相互に逆方向に移動させて、前記ウエハと前記レチクルとをスキャン方向に相対移動させてスキャン露光を行うと共に、前記ウエハステージを前記スキャン方向と直交するステップ方向に移動させてステップアンドリピートで前記ウエハに対して露光を行うスキャン露光装置を用いた露光方法であって、使用される各露光装置について、パイロットウエハに、各ショット領域内にスキャン方向に4つ以上,且つステップ方向に4つ以上マトリクス配列形成された、複数のマークの位置情報を検出するステップと、被重ね合わせ層の露光時に用いたスキャン露光装置から得られたマークの位置情報と、重ね合わせ層の露光に用いるスキャン露光装置から得られたマークの位置情報との各座標成分の差分を演算するステップと、演算された差分から、レンズ収差をそれぞれ表すパラメータを求めるステップと、求められたパラメータより得られる補正パラメータに基づいて前記重ね合わせ層の露光を行うステップを含むことを特徴とする露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/22 , G03F 9/00

FI (5)：

G03F 7/22 H , G03F 9/00 H , H01L 21/30 525 W , H01L 21/30 518 , H01L 21/30 525 X

F-Term (3)：

5F046BA05 , 5F046FC04 , 5F046FC06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

露光方法及びデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-157113 Applicant：株式会社ニコン
露光装置および露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-319876 Applicant：キヤノン株式会社
重ね合わせ露光の最適化方法及び露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-022197 Applicant：ソニー株式会社

Show all

Cited by examiner (1)

露光方法及びデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-157113 Applicant：株式会社ニコン

Return to Previous Page