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J-GLOBAL ID：200903055487346041

露光装置および露光方法

Inventor：
古賀 慎一郎

About 古賀 慎一郎

, 
鵜澤 繁行

About 鵜澤 繁行


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 伊東 哲也 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998319876
Publication number (International publication number)：2000133579
Application date： Oct. 23, 1998
Publication date： May. 12, 2000
Summary：
【要約】【課題】 位置合わせ精度を向上させる。【解決手段】 被露光基板上のサンプルショットについて位置ずれ量またはショット内誤差成分を計測し、これらの計測値に基づいて、基板上の各ショットのショット内誤差成分を算定し、基板上の各ショットを露光するため基板をステップ移動またはスキャン露光する際、露光対象ショットの位置に応じて、ショット内誤差成分を補正するように基板をステップ移動またはスキャンする。
Claim (excerpt)：
被処理基板上の複数の被処理領域のうちの複数の代表領域の位置ずれ量をこれらの代表領域内の代表点の計測によって求める計測手段と、これらの代表領域の位置ずれ量の計測値をもとに、被処理基板上の各領域の位置ずれ量を統計計算によって求める統計計算手段と、統計計算された各領域の位置ずれ量に基づいて各領域の領域内誤差を算定する手段と、前記被処理基板上の各領域を順に処理するために該基板の姿勢を前記領域内誤差に基づいて補正する手段とを具備することを特徴とする露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/00
FI (2)：
H01L 21/30 525 W ,  G03F 9/00 H
F-Term (18)：
5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC06 ,  5F046DA13 ,  5F046EA03 ,  5F046EA09 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046ED01 ,  5F046FA03 ,  5F046FA10 ,  5F046FC04 ,  5F046FC06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (11)
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Cited by examiner (11)
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