超広帯域光パルス発生方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：清水守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999259820
Publication number (International publication number)：2001083558
Application date： Sep. 14, 1999
Publication date： Mar. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】近赤外光から近紫外光に及ぶ超広帯域な光パルスを発生する超広帯域光パルス発生方法を提供する。【解決手段】ピコ秒以下の超短パルスレーザー光発生装置(1)から出射される基本波パルスを用い、この基本波パルスを非線形光学物質(6)を通すことによって得られる中心波長が基本波パルスと異なるように変換される波長変換パルスを有する超広帯域光パルス発生方法において、前記波長変換パルスを前記基本波パルスと分離する過程と、前記波長変換パルスを前記基本波パルスに対して時間遅延をかける過程と、前記基本波パルス乃至波長変換パルスに対して偏光方向を調整する過程と、前記基本波パルス及び波長変換パルスのパルスエネルギーを調整する過程と、前記分離された基本波パルスと波長変換パルスを重ね合わせる過程と、この重ね合わされたパルス波を非線形光学的部材(22)に入射、伝搬、出射させる過程を含む。

Claim (excerpt)：

ピコ秒以下の超短パルスレーザー光発生装置から出射される基本波パルスを用い、該基本波パルスを非線形光学物質を通すことによって得られる中心波長が基本波パルスと異なるように変換される波長変換パルスを有する超広帯域光パルス発生方法において、(a)前記波長変換パルスを前記基本波パルスと分離する過程と、(b)前記波長変換パルスを前記基本波パルスに対して時間遅延をかける過程と、(c)前記基本波パルス乃至波長変換パルスに対して偏光方向を調整する過程と、(d)前記基本波パルス及び波長変換パルスのパルスエネルギーを調整する過程と、(e)前記分離された基本波パルスと波長変換パルスを重ね合わせる過程と、(f)該重ね合わされたパルス波を非線形光学部材に入射、伝搬、出射させる過程を含むことを特徴とする超広帯域光パルス発生方法。

IPC (4)：

G02F 1/37 , G02F 1/35 502 , G02F 1/365 , G02F 1/39

FI (4)：

G02F 1/37 , G02F 1/35 502 , G02F 1/365 , G02F 1/39

F-Term (11)：

2K002AB12 , 2K002BA02 , 2K002DA01 , 2K002DA04 , 2K002DA20 , 2K002EB15 , 2K002HA20 , 2K002HA21 , 2K002HA23 , 2K002HA24 , 2K002HA31

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-165128
超短パルス広帯域光波発生方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-233366 Applicant：科学技術振興事業団
特開平3-065932

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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