Pat
J-GLOBAL ID：200903067863461602

酸化インジウム粉末

Inventor：
藤原 隆

About 藤原 隆


Applicant, Patent owner：
三井金属鉱業株式会社

About 三井金属鉱業株式会社


Agent (2)： 竹内 三郎 ,  市澤 道夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004228663
Publication number (International publication number)：2006044993
Application date： Aug. 04, 2004
Publication date： Feb. 16, 2006
Summary：
【課題】 酸化スズ粉末と均一に混合処理することができ、ITO焼結体におけるピンホールの発生を抑制できる酸化インジウム粉末を提案する。【解決手段】レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定し得られる凝集粒度体積基準分布において、粒度範囲0.2〜4μmにおける最高頻径の頻度が2〜5%であり、粒度範囲4μm以上における最高頻径の頻度が2〜4%である粒度分布を備えた酸化インジウム粉末を提案する。酸化スズ粉末との混合性に優れており、ムラが無くピンホールの生じないITO焼結体を製造することができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られる凝集粒度体積基準分布において、 粒度範囲0.2〜4μmにおける最高頻径の頻度が2〜5%であり、 粒度範囲4μm以上における最高頻径の頻度が2〜4%であることを特徴とする粒度分布を備えた酸化インジウム粉末。
IPC (2)：
C01G 15/00 ,  C04B 35/457
FI (2)：
C01G15/00 B ,  C04B35/00 R
F-Term (15)：
4G030AA34 ,  4G030AA39 ,  4G030BA02 ,  4G030BA15 ,  4G030GA01 ,  4G030GA03 ,  4G030GA04 ,  4G030GA05 ,  4G030GA11 ,  4G030GA14 ,  4G030GA22 ,  4G030GA25 ,  4G030GA27 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (13)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM