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J-GLOBAL ID：200903067880706481

インプリントリソグラフィ

Inventor： アレクセイ ユーリフィチ コレスニーチェンコ ,  ヘルマー ファン サンテン ,  イヴォンヌ ウェンデラ クルイユト - シュテゲマン
Applicant, Patent owner： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  田中 正 ,  森 徹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006146630
Publication number (International publication number)：2006332678
Application date： May. 26, 2006
Publication date： Dec. 07, 2006
Summary：

【課題】パターン形成したテンプレートを流動可能な状態のインプリント可能媒体にインプリントするプロセスを適用した、高温およびUVインプリントリソグラフィを提供する。【解決手段】インプリントテンプレートを保持するように構成されたテンプレートホルダ、基板を受けるように配置構成された基板テーブルと、インプリントテンプレートの一部を照明するように配置構成された放射線出力部と、インプリントテンプレートと基板上に設けたインプリント可能材料の間の境界面から散乱する放射線を検出するように構成された検出器とを有するリソグラフィ装置を開示する。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

リソグラフィ装置であって、 インプリントテンプレートを保持するように構成されたテンプレートホルダと、 基板を受けるように配置構成された基板テーブルと、 インプリントテンプレートの一部を照明するように配置構成された放射線出力部と、 インプリントテンプレートと基板上に設けたインプリント可能材料との境界面から散乱した放射線を検出するように構成された検出器とを有するリソグラフィ装置。

IPC (1)：

H01L 21/027

FI (1)：

H01L21/30 502D

F-Term (3)：

5F046BA10 ,  5F046CA02 ,  5F046DB01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 転写リソグラフィのための透明テンプレートと基板の間のギャップおよび配向を高精度でセンシングするための方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2002-516600   Applicant：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
• モールド、パターン形成方法、及びパターン形成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-137319   Applicant：キヤノン株式会社
• ナノインプリント装置及び方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-352744   Applicant：住友重機械工業株式会社
• レジストパターン形成装置およびその形成方法、および、当該方法を用いた半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-049675   Applicant：ソニー株式会社