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J-GLOBAL ID：200903067887172989

強磁性トンネル接合素子の製造方法

Inventor： 三塚 勉 ,  松田 和博 ,  上條 敦 ,  柘植 久尚
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 稲垣 清
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999170192
Publication number (International publication number)：2000357829
Application date： Jun. 16, 1999
Publication date： Dec. 26, 2000
Summary：

【要約】【課題】 磁気ヘッドや固体磁気メモリ(MRAM)に必要な高MR比を実現すると同時に、接合抵抗を自由に調節可能な強磁性トンネル接合素子を得る。【解決手段】 第一の強磁性体層11を成膜した後に、0.3nm以上1nm未満の厚さの導電層12を成膜し酸化して酸化導電層13を形成し、その後に再度導電層14を成膜し酸化するというように、成膜・酸化の工程を二度以上繰り返してトンネルバリア層15を作成する。接合界面に、強磁性体の酸化物や未酸化のAlがない高品質のトンネルバリア層が形成され、高いMR比が得られる。

Claim (excerpt)：

第一の強磁性体層と第二の強磁性体層との間にトンネルバリア層を挟んだ構造を持つ強磁性トンネル接合素子の製造方法であって、トンネルバリア層を、金属または半導体からなる導電層を成膜した後に酸化するという工程を二度以上繰り返す、強磁性トンネル接合素子の製造方法において、前記導電層を第一回目に成膜するときの膜厚を、0.3nm以上で1nm未満としたことを特徴とする、強磁性トンネル接合素子の製造方法。

IPC (2)：

H01L 43/08 ,  H01L 43/12

FI (2)：

H01L 43/08 Z ,  H01L 43/12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 強磁性トンネル接合磁気センサ、その製造方法、磁気ヘッド、および磁気記録/再生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-060069   Applicant：富士通株式会社
• 強磁性トンネル接合素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-209292   Applicant：日本電気株式会社
• 磁気抵抗センサ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-319003   Applicant：富士通株式会社
• 多重トンネル接合、トンネル磁気抵抗効果素子、磁気センサおよび磁気記録センサヘッド
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-221501   Applicant：株式会社日立製作所

Cited by examiner (1)

• 強磁性トンネル接合磁気センサ、その製造方法、磁気ヘッド、および磁気記録/再生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-060069   Applicant：富士通株式会社