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J-GLOBAL ID:200903067981786656

カーボンナノチューブ膜作製装置及びカーボンナノチューブ膜作製方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 光石 俊郎 ,  光石 忠敬 ,  田中 康幸 ,  松元 洋
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003184152
Publication number (International publication number):2005015870
Application date: Jun. 27, 2003
Publication date: Jan. 20, 2005
Summary:
【課題】方向や径が揃ったカーボンナノチューブ膜を短時間で作製することができ量産性に優れたカーボンナノチューブ膜作製装置とする。【解決手段】基板3が収容されるチャンバ1内をプラズマ化して塩素ガスのガスプラズマ19を発生させ、塩素ラジカルによりグラファイト製の被エッチング部材11をエッチングすることにより気相中に塩化炭素の前駆体を生成し、基板3側の温度を被エッチング部材11側の温度よりも低くすることで前駆体の炭素成分をカーボンナノチューブ膜として基板3に成膜させる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
基板が収容されるチャンバと、 チャンバ内において基板に対向する位置に設けられる炭素材製の被エッチング部材と、 基板と被エッチング部材との間にハロゲンを含有する原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、 チャンバの内部をプラズマ化して原料ガスプラズマを発生させ、原料ガスプラズマで被エッチング部材をエッチングすることにより被エッチング部材の炭素成分と原料ガスとからなる前駆体を生成するプラズマ発生手段と、 基板の温度を被エッチング部材の温度よりも低くすることにより前駆体の炭素成分をカーボンナノチューブ膜として基板に成膜させる温度制御手段と を備えたことを特徴とするカーボンナノチューブ膜作製装置。
IPC (2):
C23C16/26 ,  C01B31/02
FI (2):
C23C16/26 ,  C01B31/02 101F
F-Term (22):
4G146AA11 ,  4G146AB07 ,  4G146BA02 ,  4G146BC09 ,  4G146BC16 ,  4G146BC41 ,  4G146CB16 ,  4G146CB17 ,  4G146DA16 ,  4G146DA25 ,  4G146DA41 ,  4K030AA03 ,  4K030BA27 ,  4K030BB00 ,  4K030EA01 ,  4K030FA04 ,  4K030FA10 ,  4K030JA10 ,  4K030KA08 ,  4K030KA30 ,  4K030KA41 ,  4K030KA46
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 最新の炭素材料実験技術(分析・解析編)

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