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J-GLOBAL ID：200903068184365099

ガス浄化方法,ガス浄化触媒、及び排ガス浄化装置

Inventor： 菅野 周一 ,  唐澤 英年
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 井上 学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006342058
Publication number (International publication number)：2008149289
Application date： Dec. 20, 2006
Publication date： Jul. 03, 2008
Summary：

【課題】 複雑な空燃比等の制御を必要とせず、高濃度のO2 が存在する雰囲気下で、HCを用いて排ガス中のNOxを高効率でN2 に還元し、かつ、排ガス中の残存するHCを除去する。【解決手段】 本発明は、内燃機関からの排ガスに含まれるNOxを、HCを還元剤として触媒で浄化し、その後、残存するHCを触媒で除去する方法にある。NOx除去触媒を所定温度以下に保持し浄化方法を行うことにより、HCの燃焼を抑制してNOx除去性能を向上させる。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

内燃機関から排出される排ガスを浄化する排ガスの浄化方法であって、 前記排ガス中の窒素酸化物を炭化水素で還元し除去するNOx除去工程と、 前記排ガス中の炭化水素を燃焼させ除去するHC除去工程とを有することを特徴とする排ガス浄化方法。

IPC (6)：

B01D 53/94 ,  B01J 23/75 ,  B01J 31/20 ,  B01J 29/46 ,  F01N 3/28 ,  F01N 3/36

FI (8)：

B01D53/36 104A ,  B01D53/36 102H ,  B01D53/36 104Z ,  B01J23/74 311A ,  B01J31/20 A ,  B01J29/46 A ,  F01N3/28 301D ,  F01N3/36 A

F-Term (90)：

3G091AA12 ,  3G091AA18 ,  3G091AB02 ,  3G091AB03 ,  3G091AB05 ,  3G091BA01 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091CA18 ,  3G091CA22 ,  3G091DA02 ,  3G091FB01 ,  3G091GA01 ,  3G091GA02 ,  3G091GA06 ,  3G091GA18 ,  3G091GB01W ,  3G091GB05W ,  3G091GB06W ,  3G091GB07W ,  3G091GB09X ,  3G091GB10X ,  3G091HA09 ,  3G091HA47 ,  4D002AA12 ,  4D002AC10 ,  4D002BA06 ,  4D002CA07 ,  4D002DA56 ,  4D002DA70 ,  4D002EA07 ,  4D002GA01 ,  4D002GB11 ,  4D048AA06 ,  4D048AA18 ,  4D048AB01 ,  4D048AB05 ,  4D048AB07 ,  4D048BA03X ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA11X ,  4D048BA30Y ,  4D048BA31Y ,  4D048BA34Y ,  4D048BA35Y ,  4D048BA36Y ,  4D048BA37X ,  4D048BA38Y ,  4D048BA41X ,  4D048BA45X ,  4D048CC32 ,  4D048CC46 ,  4G169AA03 ,  4G169BA01B ,  4G169BA02B ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BA21B ,  4G169BA28A ,  4G169BA28B ,  4G169BB04B ,  4G169BC31A ,  4G169BC33A ,  4G169BC66A ,  4G169BC67B ,  4G169BC68A ,  4G169BC72A ,  4G169BC75A ,  4G169BE42B ,  4G169BE46B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA08 ,  4G169CA13 ,  4G169CA15 ,  4G169DA06 ,  4G169EE08 ,  4G169FB05 ,  4G169FB06 ,  4G169FB14 ,  4G169FB29 ,  4G169FB30 ,  4G169FB31 ,  4G169FB70 ,  4G169FC08 ,  4G169ZA11B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 内燃機関の排ガス浄化方法とその装置及びその触媒とその製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-123627   Applicant：株式会社日立製作所, バブコック日立株式会社

Cited by examiner (9)

• 天然ガス燃焼排ガス中の窒素酸化物の浄化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-250522   Applicant：大阪瓦斯株式会社
• 排ガス浄化触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-229727   Applicant：東ソー株式会社
• ディーゼルエンジンの排気浄化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-127506   Applicant：日産自動車株式会社
• 還元体添加の制御方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2006-516452   Applicant：ジョンソンマッセイパブリックリミテッドカンパニー
• 内燃機関の排気浄化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-226466   Applicant：トヨタ自動車株式会社, 日野自動車株式会社
• 排気後処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-098009   Applicant：三菱ふそうトラック・バス株式会社
• 排ガス浄化触媒及びその製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-109235   Applicant：日野自動車工業株式会社
• 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-066332   Applicant：東京濾器株式会社
• 排気ガス浄化用触媒の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-318971   Applicant：株式会社日本自動車部品総合研究所