スパッタリングターゲットとそれを用いた保護膜および光記録媒体

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：須山佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999062349
Publication number (International publication number)：2000256840
Application date： Mar. 09, 1999
Publication date： Sep. 19, 2000
Summary：

【要約】【課題】光記録媒体の記録層の保護膜形成などに用いられるZnSとSiO2などとを含むスパッタリングターゲットにおいて、それを用いて形成した保護膜のオーバーライトや初期化などによる剥がれを抑制する。【解決手段】 ZnSとそれと互いに固溶し合わない金属化合物から選ばれる少なくとも1種とを含むスパッタリングターゲットにおいて、金属化合物をZnS中に均一に分散配置する。金属化合物の平均粒径は、例えばターゲット全体として100μm以下とし、かつターゲットの各部位において100μm以下とする。さらに、各部位における金属化合物の平均粒径は、ターゲット全体の平均粒径に対してそのばらつきが±20%以内となるように制御する。

Claim (excerpt)：

ZnSと、前記ZnSと互いに固溶し合わない金属化合物から選ばれる少なくとも1種とを含むスパッタリングターゲットにおいて、前記金属化合物は前記ZnS中に均一に分散配置されていることを特徴とするスパッタリングターゲット。

IPC (2)：

C23C 14/34 , G11B 5/84

FI (2)：

C23C 14/34 A , G11B 5/84 B

F-Term (9)：

4K029BA41 , 4K029BD00 , 4K029DC05 , 4K029DC09 , 5D112AA07 , 5D112AA24 , 5D112BC07 , 5D112FA04 , 5D112FB06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

光記録保護膜用スパッタリング・ターゲットおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-241148 Applicant：同和鉱業株式会社
光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-307466 Applicant：三菱マテリアル株式会社
特開昭63-143254

Show all

Return to Previous Page