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J-GLOBAL ID:200903068234679332
加速度センサ及び加速度センサの製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
グローバル・アイピー東京特許業務法人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003203914
Publication number (International publication number):2005049130
Application date: Jul. 30, 2003
Publication date: Feb. 24, 2005
Summary:
【課題】小型かつ検出感度の高い加速度センサを提供することにある。【解決手段】錘部8と、錘部8の周囲を囲んで配置された台座部9と、全周において台座部9の幅よりも狭く形成された支持部3と、支持部3の内側において錘部8を固定する質量部2と、支持部3と質量部2とを接続しかつ支持部3側の端部付近において台座部9に重なっている梁部4と、梁部4の台座部9に重なっている部分と台座部9との間に所定の隙間を形成するように、支持部3と台座部9との間に配置された周辺中間膜12を備える加速度センサ。【選択図】 図4
Claim (excerpt):
錘部と、前記錘部の周囲を囲んで配置された台座部と、
前記台座部に沿って配置され、かつ、全周において前記台座部の幅よりも狭く形成された支持部と、
前記支持部の内側において前記錘部を固定する質量部と、
前記支持部と前記質量部とを接続し、かつ、前記支持部側の端部付近において前記台座部に重なっている梁部と、
を備えた加速度センサ。
IPC (4):
G01P15/12
, G01P15/09
, G01P15/125
, H01L29/84
FI (4):
G01P15/12 D
, G01P15/09 D
, G01P15/125 Z
, H01L29/84 A
F-Term (17):
4M112AA02
, 4M112BA01
, 4M112CA21
, 4M112CA24
, 4M112CA27
, 4M112CA31
, 4M112CA33
, 4M112DA02
, 4M112DA04
, 4M112DA09
, 4M112DA11
, 4M112DA18
, 4M112EA07
, 4M112EA11
, 4M112EA18
, 4M112FA01
, 4M112FA20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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加速度センサ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-262182
Applicant:松下電工株式会社
-
半導体加速度センサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-203303
Applicant:株式会社フジクラ, 新技術事業団
-
3軸加速度センサの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-190869
Applicant:松下電工株式会社
-
半導体加速度センサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-295416
Applicant:株式会社フジクラ
-
加速度センサの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-167418
Applicant:松下電工株式会社
-
特開平4-009770
-
圧力センサチップ及びその製造方法並びにセンサ機構を有するカテーテル
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-264400
Applicant:株式会社東海理化電機製作所
-
半導体加速度センサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-363371
Applicant:日立金属株式会社
-
加速度センサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-101928
Applicant:住友金属工業株式会社, 株式会社ワコー
-
特開平4-009770
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