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J-GLOBAL ID:200903068934826697
材料加工方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
松浦 憲三
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003134897
Publication number (International publication number):2004338137
Application date: May. 13, 2003
Publication date: Dec. 02, 2004
Summary:
【課題】脆性材料を所望の形状に加工する除去加工において、品質面(加工精度、チッピング等の欠陥のないこと)とコスト面(加工速度、装置コスト)との両方を満足させることができる材料加工方法を提供する。【解決手段】被加工物10の表面に別部材12の裏面を密着させ、別部材12の表面側よりパターン状の除去加工を開始し、被加工物10の表面より所定深さまでパターン状の除去加工を行う。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
被加工物の表面に別部材の裏面を密着させ、
前記別部材の表面側よりパターン状の除去加工を開始し、前記被加工物の表面より所定深さまでパターン状の除去加工を行うことを特徴とする材料加工方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (3):
3C069BA04
, 3C069CA11
, 3C069EA05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (24)
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特開昭61-058703
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特開昭61-058703
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特開平2-008015
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特開平2-008015
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特公平2-023324
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特開昭54-089473
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特開平3-215822
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狭幅切断及び狭幅溝加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-015492
Applicant:シチズン時計株式会社
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微細加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-084169
Applicant:日本電装株式会社
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特公平2-023324
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特開平3-215822
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磁気ヘッドの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-168122
Applicant:株式会社ジャパンエナジー
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半導体基板ダイシング法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-328553
Applicant:株式会社日立製作所, 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリング株式会社
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セラミックチップの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-238219
Applicant:株式会社トクヤマ
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特開昭54-089473
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光変調装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-165142
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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特開平2-241688
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特開平2-241688
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特開昭61-058703
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特開平2-008015
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特公平2-023324
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特開平3-215822
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特開昭54-089473
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特開平2-241688
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