化学増幅型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001395888
Publication number (International publication number)：2003195506
Application date： Dec. 27, 2001
Publication date： Jul. 09, 2003
Summary：

【要約】【課題】感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特にSEM耐性及びドライエッチング耐性に優れたポジ型化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】下式(Ia)及び(Ib)で表される重合単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の重合単位を含有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、酸発生剤並びに多官能エポキシ化合物を含む化学増幅型ポジ型レジスト組成物。・・・・・(Ia)・・・・・(Ib)(式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、nは1〜3の整数を表す。R2が複数のとき、互いに同一でも異なっていてもよく、R4が複数のとき、互いに同一でも異なっていてもよい。)

Claim (excerpt)：

下式(Ia)及び(Ib)で表される重合単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の重合単位を含有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、酸発生剤並びに多官能エポキシ化合物を含むことを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。・・・・・(Ia)・・・・・(Ib)(式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、nは1〜3の整数を表す。R2が複数のとき、互いに同一でも異なっていてもよく、R4が複数のとき、互いに同一でも異なっていてもよい。)

IPC (4)：

G03F 7/039 601 , C08F220/28 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 , C08F220/28 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

F-Term (33)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA03R , 4J100BA11P , 4J100BA11Q , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA28 , 4J100DA39 , 4J100FA03 , 4J100FA28 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-188853 Applicant：日本電気株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-321348 Applicant：富士写真フイルム株式会社
化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-199097 Applicant：三菱レイヨン株式会社

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