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J-GLOBAL ID：200903069604579916

感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

Inventor：
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004124124
Publication number (International publication number)：2005308969
Application date： Apr. 20, 2004
Publication date： Nov. 04, 2005
Summary：
【課題】 IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、露光ラチチュード、ラインエッジラフネスが改善された感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 特定構造のスルホニウム塩を含有する感光性組成物、特定構造のスルホニウム塩及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。
Claim (excerpt)：
(A)下記一般式(I)で表されるスルホニウム塩を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (2)：
G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (2)：
G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
F-Term (16)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-315265   Applicant：住友化学工業株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-219125   Applicant：日本合成ゴム株式会社
  • 国際公開第02/19033号パンフレット
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Cited by examiner (2)
  • レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-110738   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • 特開昭51-056885

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