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J-GLOBAL ID：200903069786523562

低誘電率低屈折率ナノコンポジット材料

Inventor： 高橋 昭雄 ,  宮崎 靖夫 ,  山田 真治 ,  佐通 祐一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 井上 学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006137217
Publication number (International publication number)：2007308544
Application date： May. 17, 2006
Publication date： Nov. 29, 2007
Summary：

【課題】本発明は、絶縁樹脂において特殊な構造の導入を必要とせず、低誘電率,低屈折率を実現可能なシリカ樹脂ナノコンポジット材料とその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】シリカ微粒子,有機樹脂,有機溶剤から形成される物理ゲル化したオルガノゲルを加熱によりゲル化物から有機溶剤を除去することにより、有機樹脂中に直径100nm以下の気泡を有するナノポーラス構造を有する低誘電率低屈折率率シリカ樹脂ナノコンポジット材料を特徴とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

有機樹脂中にシリカ微粒子が分散した低誘電率低屈折率シリカ樹脂ナノコンポジット材料であって、前記有機樹脂が直径100nm以下の気泡を有することを特徴とする低誘電率低屈折率シリカ樹脂ナノコンポジット材料。

IPC (3)：

C08J 9/28 ,  H05K 1/03 ,  G02B 6/12

FI (4)：

C08J9/28 102 ,  C08J9/28 ,  H05K1/03 610H ,  G02B6/12 N

F-Term (20)：

2H147EA16B ,  2H147EA17B ,  2H147EA18B ,  2H147EA19B ,  2H147EA20B ,  2H147EA32B ,  2H147EA45B ,  4F074AA48 ,  4F074AA59 ,  4F074AA64 ,  4F074AA69 ,  4F074AA71 ,  4F074AA74 ,  4F074AC32 ,  4F074AE01 ,  4F074AG01 ,  4F074CB34 ,  4F074CC28Y ,  4F074DA03 ,  4F074DA47

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 分子的多孔性エーロゲルで充填された低誘電率複合積層品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-134400   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• かご状シルセスキオキサン含有皮膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-150069   Applicant：コニカ株式会社

Cited by examiner (3)

• 多孔質ナノコンポジット薄膜及びその形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-155795   Applicant：旭硝子株式会社
• 配列されたポリマーとゲル化剤を含む組成物
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2005-501935   Applicant：ロレアル
• 反射防止用多孔質光学材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-036645   Applicant：大日本印刷株式会社