Pat
J-GLOBAL ID：200903069999412772

電解水生成装置

Inventor：
野口 弘之

About 野口 弘之

, 
才原 康弘

About 才原 康弘

, 
菊地 憲次

About 菊地 憲次


Applicant, Patent owner：
松下電工株式会社

About 松下電工株式会社


Agent (1)： 西川 惠清 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999335093
Publication number (International publication number)：2000218270
Application date： Nov. 25, 1999
Publication date： Aug. 08, 2000
Summary：
【要約】【課題】 還元側の電位を有する陰極水として、活性酸素等の存在下においても対象物質である還元型物質の酸化を抑制し、還元状態を維持することができ、あるいは酸化型物質を還元型物質に還元し、還元型物質を有効に再生産することができる陰極水を生成することができる電解水生成装置を提供する。【解決手段】 陽極12Bが配設された陽極室18と、陰極12Aが配設された陰極室14と、陽極室18と陰極室14を仕切るように配設された、陽イオンと陰イオンの両方或いはそれらのうち少なくとも一方を通過させ得る隔膜5とを備える電解槽2を具備する。溶存イオンを含む原水から有隔膜電解により陽極水と陰極水を生成する。陰極室14にて生成される陰極水中に、理論飽和濃度より高い過飽和状態水素を発生させて溶存水素ガス粒子を含ませると共に、その粒径を5〜1000nmの範囲において分布させることができる電解槽2を具備する。
Claim (excerpt)：
陽極が配設された陽極室と、陰極が配設された陰極室と、陽極室と陰極室を仕切るように配設された、陽イオンと陰イオンのうち少なくとも一方を通過させ得る隔膜とを備える電解槽を具備し、溶存イオンを含む原水から、有隔膜電解により陽極水と陰極水を生成する電解水生成装置であって、陰極室にて生成される陰極水中に、理論飽和濃度より高い過飽和状態で水素を発生させて溶存水素ガス粒子を含ませると共に、その粒径を5〜1000nmの範囲において分布させることができる電解槽を具備して成ることを特徴とする電解水生成装置。
IPC (7)：
C02F 1/46 ,  B01D 61/44 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/70 ,  C02F 1/72 ,  C25B 1/04 ,  C25B 9/00
FI (7)：
C02F 1/46 A ,  B01D 61/44 ,  C02F 1/44 H ,  C02F 1/70 Z ,  C02F 1/72 Z ,  C25B 1/04 ,  C25B 9/00 A
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (11)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM