プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： , , ,
Agent (1)：田中宏 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999203673
Publication number (International publication number)：2001035835
Application date： Jul. 16, 1999
Publication date： Feb. 09, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【解決手段】本発明は大気圧中に相対して設けた一方向に長くかつ冷却用の流体をそのなかに循環せしめた平行中空の角状または同心中空の円筒状電極1,2に誘電体3を付し、電極の間に不活性ガス又は不活性ガスと反応性ガスの混合ガスを通過せしめ高周波電圧を電極間に印加してグロー放電を起こした時、スリット状のガス出口からグロー放電によって励起されたプラズマを噴き出させてスリット状ガス出口に殆ど接した被処理物表面をエッチング、又は改質する新規な低温プラズマによる表面処理法及び処理装置に関する。【効果】本発明によるプラズマ処理法は、電極間に被処理物を置かない事と電極を冷却する事で噴き出すプラズマの温度が低いために、フィルムやシート、金属箔の表面処理に大きな効果があり、噴き出し口の形状によっては不定型物の表面処理も可能である。さらに大きな容器全体の空気をガスで置換する必要もなく、グロー放電も安定で経済的にも優れた処理が出来る。

Claim (excerpt)：

一方向に長く伸びた筒状誘電体の外周部に筒状誘電体に接して鞍型に金属製電極を配置し、さらに該筒状誘電体内部に該鞍型電極に対向するように同軸状に金属製電極を配置し、筒状誘電体の外周部に円周長手方向に沿ってスリット状の開口部を設け、筒状誘電体内部に不活性ガスまたは不活性ガスと反応ガスとの混合ガスを通過せしめ、鞍型電極と内部電極間に高周波電圧を印加して大気圧下でグロー放電によるプラズマを該誘電体内部に励起させ、スリット状のガス出口から、出口下流に位置させた被処理物の表面にプラズマを噴出せしめ、放電領域外において被処理物表面をエッジング、または改質、または洗浄、または薄膜の堆積を行う、連続的大気圧グロー放電プラズマ処理方法。

IPC (8)：

H01L 21/3065 , C08J 7/00 CES , C08J 7/00 CEW , C08J 7/00 CFG , C08J 7/00 306 , C23C 16/505 , H01L 21/205 , C08L101:00

FI (7)：

H01L 21/302 B , C08J 7/00 CES , C08J 7/00 CEW , C08J 7/00 CFG , C08J 7/00 306 , C23C 16/505 , H01L 21/205

F-Term (47)：

4F073AA21 , 4F073AA25 , 4F073AA28 , 4F073BA08 , 4F073BA15 , 4F073BA31 , 4F073BB01 , 4F073CA01 , 4F073CA05 , 4F073CA06 , 4F073CA07 , 4F073CA08 , 4F073CA13 , 4F073DA01 , 4F073DA05 , 4F073DA08 , 4F073DA09 , 4K030AA04 , 4K030AA06 , 4K030AA09 , 4K030AA14 , 4K030AA17 , 4K030AA24 , 4K030CA07 , 4K030CA17 , 4K030FA01 , 4K030KA15 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB32 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F004DA01 , 5F004DA21 , 5F004DA22 , 5F004DA25 , 5F004DA26 , 5F004DB26 , 5F045AA08 , 5F045AC01 , 5F045AC07 , 5F045AC15 , 5F045AC16 , 5F045AC17 , 5F045EH13 , 5F045EH15 , 5F045EJ05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

表面処理方法及びその装置、半導体装置の製造方法及びその装置、並びに液晶ディスプレイの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-124250 Applicant：セイコーエプソン株式会社
表面処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-268000 Applicant：セイコーエプソン株式会社
大気圧グロ-放電プラズマ用電極
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-211419 Applicant：イーシー化学株式会社, 岡崎幸子, 小駒益弘

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