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J-GLOBAL ID：200903070132670173

促進酸化処理方法および装置

Inventor：
加藤 康弘

About 加藤 康弘


Applicant, Patent owner：
富士電機システムズ株式会社

About 富士電機システムズ株式会社


Agent (1)： 江幡 敏夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003322292
Publication number (International publication number)：2005087814
Application date： Sep. 12, 2003
Publication date： Apr. 07, 2005
Summary：
【課題】オゾンと過酸化水素を併用した促進酸化処理において、経済的、かつ効率的、しかも安全なオゾン注入制御方法、および過酸化水素注入方法を見出すこと。また、溶存オゾンがなくなり制御できなくなるという不安がなく、汎用の計器を使用し、簡単な操作で、しかも過不足なく必要なオゾンと過酸化水素を注入制御できる促進酸化処理方法を提供すること。【解決する手段】オゾンガスと被処理水を接触・混合せしめるオゾン接触工程を配し、そのオゾン接触工程の次にオゾンガスおよび過酸化水素を混合・注入する促進酸化処理工程を配する工程とし、オゾン接触工程から流出する処理液を次の促進酸化処理工程に導入すると共に、該オゾン接触工程における溶存オゾン濃度値に応じて、該促進酸化処理工程でのオゾン注入量、および過酸化水素注入量を制御する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
オゾン接触槽内の被処理水にオゾン、および過酸化水素を注入して酸化処理を行う促進酸化処理方法において、オゾン接触槽の下部に設けたオゾン注入口からオゾンを注入し、オゾン注入口の上方に設けた過酸化水素注入口から過酸化水素を注入し、前記オゾン注入口と前記過酸化水素注入口の間に備えた溶存オゾン検出手段により溶存オゾン濃度を検出し、その検出した溶存オゾン濃度値に応じて、オゾン注入量および過酸化水素注入量を制御することを特徴とする促進酸化処理方法。
IPC (2)：
C02F1/72 ,  C02F1/78
FI (2)：
C02F1/72 Z ,  C02F1/78
F-Term (12)：
4D050AA02 ,  4D050AA15 ,  4D050AB03 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050AB07 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (3)

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