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J-GLOBAL ID:200903070147052506

二酸化炭素中で調製され、堆積され、現像されかつ除去されるフッ化フォトレジスト

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 奥山 尚一 ,  有原 幸一 ,  松島 鉄男
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2006536750
Publication number (International publication number):2007511785
Application date: Oct. 20, 2004
Publication date: May. 10, 2007
Summary:
本発明は、ターポリマーである化合物を提供し、これは、(a)フッ素原子少なくとも1つが共有結合したエチレン性不飽和線状又は分岐化合物少なくとも1種と、(b)前記ターポリマーにおいて、環状又は多環式脱結晶化モノマーを形成する、フッ素原子少なくとも1つが共有結合した環状又は多環式化合物のエチレン性不飽和前駆体少なくとも1種と、(c)前記ターポリマー中のモノマーとして、酸又は塩基に曝されると、溶解度を変えるエチレン性不飽和官能化合物少なくとも1種とのターポリマーである化合物である。そのような化合物の製法及びフォトリソグラフィでの使用法も記載する。
Claim (excerpt):
(a)ターポリマーである化合物と、(b)光活性成分とを含むフォトレジストであって、 (a)ターポリマーである化合物が、 (i)フッ素原子少なくとも1つが共有結合したエチレン性不飽和線状又は分岐化合物少なくとも1種と、 (ii)前記ターポリマーの、環状又は多環式脱結晶化モノマーを形成する、フッ素原子少なくとも1つが共有結合した環状又は多環式化合物のエチレン性不飽和前駆体少なくとも1種と、 (iii)前記ターポリマーのモノマーとして、酸又は塩基に曝されると、溶解度を変えるエチレン性不飽和官能化合物少なくとも1種と からなるフォトレジスト。
IPC (4):
G03F 7/033 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027
FI (4):
G03F7/033 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/32 ,  H01L21/30 502R
F-Term (25):
2H025AA02 ,  2H025AA20 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BF11 ,  2H025BF13 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB07 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA15 ,  2H025FA16 ,  2H096AA27 ,  2H096BA11 ,  2H096EA05 ,  2H096GA03 ,  2H096GA60
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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