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J-GLOBAL ID：200903082305584527

短波長イメージングのためのフォトレジスト組成物

Inventor：
ティモシー・ジー・アダムズ

About ティモシー・ジー・アダムズ

, 
ジョージ・ジー・バークレー

About ジョージ・ジー・バークレー


Applicant, Patent owner：
シップレーカンパニー エル エル シー

About シップレーカンパニー エル エル シー


Agent (1)： 千田 稔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002376552
Publication number (International publication number)：2003248317
Application date： Dec. 26, 2002
Publication date： Sep. 05, 2003
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 200nm以下、特に193nmまたは157nmの波長を有する短波長イメージングに適する。【解決手段】フォト酸発生剤(PAG)などの光活性成分とフォト酸レイビルエステル基および/またはフォト酸レイビルアセタール,ケタールまたはエーテル基などを含み,かつフッ素含有単位を含む樹脂よりなるフオトレジスト組成物のコーティング層を基体上に施用し、短波長(200nm以下、特に193nmまたは157nm)の活性化放射線で露光したのち、現像してイメージングする。
Claim (excerpt)：
a)光活性成分および脂環式脱離基を含むフッ素化樹脂を含むフォトレジスト組成物のコーティング層を基体上に施用し;b)フォトレジスト組成物層を活性化放射線で露光し、露光したフォトレジスト組成物コーティング層を現像することを含む、フォトレジストレリーフイメージを提供する方法。
IPC (2)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (8)：
2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • ポジ型レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-202298   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-108824   Applicant：ジェイエスアール株式会社, インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
  • 化学増幅型レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-332641   Applicant：住友化学工業株式会社
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