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J-GLOBAL ID：200903070326232029

一酸化炭素選択酸化除去装置および一酸化炭素選択酸化除去方法

Inventor：
高山 雅子

About 高山 雅子

, 
中 貴弘

About 中 貴弘

, 
磯部 昭司

About 磯部 昭司


Applicant, Patent owner：
本田技研工業株式会社

About 本田技研工業株式会社


Agent (1)： 志賀 正武 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001024931
Publication number (International publication number)：2002234707
Application date： Jan. 31, 2001
Publication date： Aug. 23, 2002
Summary：
【要約】【課題】 被処理ガスの量が変動したり、あるいは、被処理ガスに含まれる一酸化炭素濃度が変動した場合であっても、効率良く一酸化炭素を選択酸化する【解決手段】 一酸化炭素選択酸化除去装置20を、第1及び第2及び第3選択酸化除去部21,22,23を改質ガスの流れ方向に順次、直列配置して構成した。各選択酸化除去部21,22,23は、改質ガスの流れ方向に対して順に、熱交換部11と空気供給部12とガス混合部13と各第1及び第2及び第3触媒反応部34,44,54とを備えて構成した。各触媒反応部34,44,54には、アルミナ担体にPt等の触媒金属を担持し、ハニカム化して形成された各触媒層34a,44a,54aを備えた。各触媒層34a,44a,54aは、単位体積当たりの触媒金属担持量を同一とし、改質ガスの流れ方向における各長さL1、L2、L3に対して、L1<L2<L3が成り立つように設定した。
Claim (excerpt)：
一酸化炭素を含むガスから前記一酸化炭素を酸化することにより低減除去する一酸化炭素選択酸化触媒層を多段かつ直列に配置した一酸化炭素選択酸化除去装置であって、前記ガスの流れ方向の上流側に位置する前記一酸化炭素選択酸化触媒層ほど含有する触媒金属量を低減して、前記上流側から離間するに連れて前記触媒金属量を増大してなることを特徴とする一酸化炭素選択酸化除去装置。
IPC (4)：
C01B 3/58 ,  C01B 3/32 ,  C01B 3/38 ,  H01M 8/06
FI (4)：
C01B 3/58 ,  C01B 3/32 A ,  C01B 3/38 ,  H01M 8/06 G
F-Term (23)：
4G040EA02 ,  4G040EA03 ,  4G040EB23 ,  4G040EB43 ,  4G040EC03 ,  4G040FA02 ,  4G040FB04 ,  4G040FC07 ,  4G040FE01 ,  4G140EA02 ,  4G140EA03 ,  4G140EB23 ,  4G140EB43 ,  4G140EC03 ,  4G140FA02 ,  4G140FB04 ,  4G140FC07 ,  4G140FE01 ,  5H027AA02 ,  5H027BA17 ,  5H027KK21 ,  5H027KK44 ,  5H027MM08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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