微細精密部品あるいは光学部品のX線あるいは紫外線を用いた製造方法およびその製品

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001105241
Publication number (International publication number)：2002258490
Application date： Feb. 27, 2001
Publication date： Sep. 11, 2002
Summary：

【要約】【課題】鏡面精度を有した微細精密部品の多量加工を高歩留まりで生産する事が困難である。【解決手段】フォトマスクにX線あるいは紫外線を照射してフォトレジストの塗布された被照射体を露光する構成をもった露光装置を用いて、被照射体と露光パタンの連続的あるいは離散的な相対的移動をともなって露光する工程と、フォトレジストを現像する工程と、該フォトレジストの厚さの違いを用いて、該フォトレジストの下層の物質の一部を除去して成形する工程と、をもつことを特徴とする微細精密部品あるいは光学部品のX線あるいは紫外線を用いた製造方法とする。

Claim (excerpt)：

フォトマスクにX線あるいは紫外線を照射してフォトレジストの塗布された被照射体を露光する構成をもった露光装置を用いて、被照射体と露光パタンの連続的あるいは離散的な相対的移動をともなって露光する工程と、フォトレジストを現像する工程と、該フォトレジストの厚さの違いを用いて、該フォトレジストの下層の物質の一部を除去して成形する工程と、をもつことを特徴とする微細精密部品あるいは光学部品のX線あるいは紫外線を用いた製造方法。

IPC (6)：

G03F 7/20 503 , B41J 2/135 , G02B 3/00 , G02B 5/18 , G03F 7/095 , G03F 7/40 521

FI (6)：

G03F 7/20 503 , G02B 3/00 A , G02B 5/18 , G03F 7/095 , G03F 7/40 521 , B41J 3/04 103 N

F-Term (35)：

2C057AF93 , 2C057AG05 , 2C057AG14 , 2C057AP13 , 2C057AP22 , 2C057AP38 , 2C057AP46 , 2C057AP47 , 2H025AB14 , 2H025AB20 , 2H025AC01 , 2H025AC05 , 2H025AD01 , 2H025DA11 , 2H025FA39 , 2H049AA03 , 2H049AA13 , 2H049AA33 , 2H049AA37 , 2H049AA58 , 2H096AA28 , 2H096AA30 , 2H096BA05 , 2H096EA02 , 2H096EA07 , 2H096HA27 , 2H096HA30 , 2H097AA11 , 2H097AA20 , 2H097AB00 , 2H097CA12 , 2H097CA15 , 2H097FA09 , 2H097GA02 , 2H097LA15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

パターン形成方法、光学素子の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-352996 Applicant：旭光学工業株式会社
X線照射を用いた材料の加工方法及び加工装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-202223 Applicant：学校法人立命館
X線を用いた材料の加工方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-347103 Applicant：関西ティー・エル・オー株式会社

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