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J-GLOBAL ID:200903071024177688

磁気抵抗効果素子、磁気抵抗効果型ヘッド、及びメモリ-素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岩橋 文雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999324037
Publication number (International publication number):2000340859
Application date: Nov. 15, 1999
Publication date: Dec. 08, 2000
Summary:
【要約】【課題】 従来の磁気抵抗効果素子では得られない大きなMR比と高出力の薄膜磁気ヘッドを得る。更にメモリ-素子を可能とする。【解決手段】 磁性層にスピン分極率が高く、抵抗の高い酸化物磁性膜を用い、膜面に垂直に電流を流して大きなMR比を示す磁気抵抗効果素子を得る。更にこれを用いて磁気抵抗効果型ヘッドとメモリ-素子を構成する。
Claim (excerpt):
非磁性層を介して積層された二つの磁性層の積層膜[磁性層1/非磁性層/磁性層2]を主構成要素とする磁気抵抗効果素子において、前記磁性層の少なくとも一方がMFe2O4(MはFe,Co,Niから選ばれる1種もしくは2種以上の元素)を主成分として構成されることを特徴とする磁気抵抗効果素子。
IPC (5):
H01L 43/08 ,  G11B 5/39 ,  G11C 11/15 ,  H01F 10/14 ,  H01F 10/16
FI (5):
H01L 43/08 Z ,  G11B 5/39 ,  G11C 11/15 ,  H01F 10/14 ,  H01F 10/16
F-Term (13):
5D034BA04 ,  5D034BA05 ,  5D034BA08 ,  5D034BB12 ,  5D034CA08 ,  5E049AB04 ,  5E049AB09 ,  5E049AC00 ,  5E049AC05 ,  5E049BA12 ,  5E049BA16 ,  5E049DB02 ,  5E049DB12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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