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J-GLOBAL ID:200903071521567970
改良型薄膜誘電体を使用して電界効果デバイスおよびコンデンサを製造する方法および得られるデバイス
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
岡部 正夫 (外11名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999107329
Publication number (International publication number):2000003885
Application date: Apr. 15, 1999
Publication date: Jan. 07, 2000
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、改良型薄膜誘電体を使用して電界効果デバイスおよびコンデンサを製造する方法および得られるデバイスを提供する。【解決手段】 シリコン基板上に高誘電率材料の薄膜を蒸着し、構造物をプラズマに露出した後、上部電極を形成することによって電子デバイスが形成される。プラズマは誘電体/シリコン境界面の電荷トラップ密度を大きく低減する。誘電体膜は、上部電極を形成する前に窒素を含む材料によって保護されるので、電極と誘電体の相互拡散が防止されるので有利である。
Claim (excerpt):
誘電体材料の改良型薄膜を有する電子デバイスを製造する方法であって、露出したシリコン表面を含む基板を提供するステップと、前記露出したシリコン表面上に誘電体材料の膜を蒸着するステップと、前記誘電体膜と前記シリコンの間の電荷トラップの密度を低減するために結果として得られた構造物をプラズマに露出するステップと、前記誘電体膜の上を覆う電極を形成するステップと、前記電子デバイスを完成するステップとを含む方法。
IPC (4):
H01L 21/283
, H01L 27/04
, H01L 21/822
, H01L 29/78
FI (3):
H01L 21/283 C
, H01L 27/04 C
, H01L 29/78 301 G
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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窒化シリコン系誘電体膜およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-028214
Applicant:ソニー株式会社
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半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-098500
Applicant:キヤノン株式会社
-
半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-027061
Applicant:日本電気株式会社
-
半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-302473
Applicant:日本電気株式会社
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