研磨排水処理方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：三浦進二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998159784
Publication number (International publication number)：1999347569
Application date： Jun. 09, 1998
Publication date： Dec. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】研磨排水を膜分離し、濃縮水をカチオン基を有する高分子凝集剤で凝集処理することにより、産業廃棄物となるスラッジ量を減少させることができる研磨排水方法を提供する。【解決手段】研磨剤粒子等を含有する研磨排水を膜分離処理し、得られる濃縮水をカチオン基を有する高分子凝集剤、必要に応じて更にアニオン性高分子凝集剤を用いて凝集処理を行い、次いで固液分離する。膜分離の透過水は、放流できるが、逆浸透膜処理やイオン交換処理等の簡単な処理により水の回収再利用ができる。分離膜としては、精密濾過膜や限外濾過膜を好ましく用いることができる。カチオン基を有する高分子凝集剤としては、各種のカチオン性高分子凝集剤や両性高分子凝集剤を用いることができる。この方法は、各種の研磨排水に利用することができるが、特に酸性乃至中性のCMP(ケミカルメカニカルポリッシング)工程排水等のCMP工程排水に利用して好適である。

Claim (excerpt)：

研磨剤粒子等を含有する研磨排水を膜分離処理し、得られる濃縮水をカチオン基を有する高分子凝集剤を用いて凝集処理を行い、次いで固液分離することを特徴とする研磨排水処理方法。

IPC (2)：

C02F 1/56 , C02F 1/44

FI (2)：

C02F 1/56 K , C02F 1/44 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

NH4系CMP廃液の処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-272713 Applicant：栗田工業株式会社
ケミカルメカニカルポリッシング液の再生方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-115555 Applicant：旭化成工業株式会社
シリコン加工廃水の処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-189098 Applicant：信越半導体株式会社

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