Pat
J-GLOBAL ID：200903072162514977
ナノギャップ電極の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
三好 秀和
, 勝 治人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007073409
Publication number (International publication number)：2008235596
Application date： Mar. 20, 2007
Publication date： Oct. 02, 2008
Summary：
【課題】金属細線の絶縁破壊を防止することを第1の課題とし、高い再現性でギャップ電極を製造することを第2の課題とする。【解決手段】直流電圧VDCを発生させ、エレクトロマイグレーションを引き起こすパルス電圧Vpを所定の間隔で発生させ、直流電圧VDCとパルス電圧Vpとを重畳した電圧を金属細線14に印加する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
エレクトロマイグレーションを利用したナノギャップ電極の製造方法であって、
直流電圧を発生させ、該直流電圧を電極に印加する第1の工程と、
パルス電圧を所定の間隔で前記電極に更に印加する第2の工程と、
を有するナノギャップ電極の製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (1)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
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