ブランクマスク及びこれを用いた位相シフトマスクの製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：八田幹雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000201651
Publication number (International publication number)：2001033940
Application date： Jul. 03, 2000
Publication date： Feb. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】ブランクマスク及びこれを用いた位相シフトマスク製造方法を提供する。【解決手段】透明基板と、前記透明基板の表面に形成されたクロム膜からなる遮光膜と、前記遮光膜の表面に形成されたモリブデンシリコンオキシナイトライド膜からなる保護膜と、レジスト膜と、チャージング防止膜とが順次形成されてなるブランクマスク。および、このブランクマスクを利用した位相シフトマスク製造方法。

Claim (excerpt)：

透明基板と、前記透明基板の表面に形成された遮光膜と、前記遮光膜の表面に形成された保護膜とを具備することを特徴とするブランクマスク。

IPC (3)：

G03F 1/08 , G03F 1/14 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 1/08 A , G03F 1/08 G , G03F 1/14 E , H01L 21/30 502 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

露光用マスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-128666 Applicant：株式会社東芝
特開昭63-173051
特開平4-246649

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