X線装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994305201
Publication number (International publication number)：1996159991
Application date： Dec. 08, 1994
Publication date： Jun. 21, 1996
Summary：

【要約】【目的】 X線光学素子へのX線照射量を増大するために、該X線光学素子をX線源に十分近づけることが可能でありしかもX線源から放出される飛散粒子(放出物質)が該X線光学素子に付着、堆積する量を低減して、該X線光学素子の性能低下を防止することができるX線装置を提供すること。【構成】少なくとも、X線源105,106 と、該X線源105,106 から射出されるX線108 が入射するX線光学素子109 とを備えたX線装置において、前記X線光学素子109 を加熱して、該X線光学素子109 に付着、堆積する、或いは付着堆積しようとする前記X線源105,106 からの放出物質107 を蒸発させる加熱部110 を設けたことを特徴とするX線装置。

Claim (excerpt)：

少なくとも、X線源と、該X線源から射出されるX線が入射するX線光学素子とを備えたX線装置において、前記X線光学素子を加熱して、該X線光学素子に付着、堆積する、或いは付着堆積しようとする前記X線源からの放出物質を蒸発させる加熱部を設けたことを特徴とするX線装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

X線発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-230783 Applicant：株式会社ニコン
特開平4-258799
X線露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-295457 Applicant：株式会社ニコン

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