酸化亜鉛薄膜の形成方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000083197
Publication number (International publication number)：2001271167
Application date： Mar. 24, 2000
Publication date： Oct. 02, 2001
Summary：

【要約】【課題】種々の基材の表面に、真空プロセスを用いることなく、大気圧雰囲気下において、短時間で所望な厚みの酸化亜鉛薄膜を成膜する方法を提供すること。【解決手段】通気孔が設けられたカソード電極、該カソード電極と一定の間隔を以って対向するアノード電極から構成される対向電極間に、前記通気孔から希ガスを供給しつつ、対向電極間に高周波電圧を印加することにより大気圧放電プラズマを発生させ、該大気圧放電プラズマ中に基材を晒すことにより基材表面を前処理し、しかる後、通気孔が設けられたカソード電極、該カソード電極と一定の間隔を以って対向する電極から構成される対向電極間に、前記通気孔から希ガスおよびガス化した酸化亜鉛薄膜形成用物質を供給しつつ、対向電極間に高周波電圧を印加することにより大気圧放電プラズマを発生させ、該大気圧放電プラズマ中に基材を晒すことにより基材表面に酸化亜鉛薄膜を成膜することを特徴とする酸化亜鉛薄膜の形成方法。

Claim (excerpt)：

通気孔が設けられたカソード電極、該カソード電極と一定の間隔を以って対向するアノード電極から構成される対向電極間に、前記通気孔から希ガスを供給しつつ、対向電極間に高周波電圧を印加することにより大気圧放電プラズマを発生させ、該大気圧放電プラズマ中に基材を晒すことにより基材表面を前処理し、しかる後、通気孔が設けられたカソード電極、該カソード電極と一定の間隔を以って対向する電極から構成される対向電極間に、前記通気孔から希ガスおよびガス化した酸化亜鉛薄膜形成用物質を供給しつつ、対向電極間に高周波電圧を印加することにより大気圧放電プラズマを発生させ、該大気圧放電プラズマ中に基材を晒すことにより基材表面に酸化亜鉛薄膜を成膜することを特徴とする酸化亜鉛薄膜の形成方法。

IPC (3)：

C23C 16/40 , C23C 16/505 , H01L 21/205

FI (3)：

C23C 16/40 , C23C 16/505 , H01L 21/205

F-Term (24)：

4K030AA11 , 4K030BA47 , 4K030CA06 , 4K030FA01 , 4K030KA30 , 4K030LA04 , 5F045AA08 , 5F045AB22 , 5F045AC07 , 5F045AC16 , 5F045AC17 , 5F045AC19 , 5F045AE29 , 5F045AF07 , 5F045AF10 , 5F045BB07 , 5F045BB08 , 5F045CA13 , 5F045CB10 , 5F045DA65 , 5F045DP03 , 5F045EF02 , 5F045EH05 , 5F045EH12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

プラズマCVD法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-188090 Applicant：日新電機株式会社
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-152671 Applicant：東京工業大学長, 株式会社プラズマシステム
ガスバリア性フィルムの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-059464 Applicant：三菱重工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

大気圧低温プラズマを用いた透明導電性薄膜の作製
透明導電膜, 19990301, p.173-176

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