Pat
J-GLOBAL ID:200903072626451680
基板搬送装置および露光装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
伊東 哲也 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997325142
Publication number (International publication number):1999145248
Application date: Nov. 12, 1997
Publication date: May. 28, 1999
Summary:
【要約】【課題】 基板を処理ステージに最適な向きで供給するとともに、処理ステージで処理された基板をキャリアカセット等に最適な向きで引き渡す。【解決手段】 基板を所定の受け取り位置で受け取って処理ステージに供給するとともに、該処理ステージで処理された基板を所定の引き渡し位置まで搬送する基板搬送装置であって、前記受け取り位置で受け取った基板を前記処理ステージに供給する前に該基板を所定の位置および角度に位置決めする手段と、該処理ステージで処理された基板を前記引き渡し位置で引き渡す前に所定の角度に位置決めする角度位置決め手段とを具備する。
Claim (excerpt):
基板を所定の位置および角度に位置決めする手段と、所定の受け取り位置で基板を受け取って前記位置決め手段へ搬送し、該位置決め手段で位置決めされた基板を処理ステージへ移送し、かつ該処理ステージで処理された基板を所定の引き渡し位置まで搬送する搬送手段とを具備する基板搬送装置において、前記位置決め手段は、搬送された基板を保持する手段と、保持された基板の所定の第1方向および所定の位置に対するずれを検出する位置検出手段と、該基板保持手段を基板保持面に平行な平面内で移動かつ回転させる駆動手段と、該基板保持手段の位置を計測する手段と、前記位置検出手段と前記駆動手段を用いて前記基板を前記第1方向で前記所定の位置に位置決めする第1の制御手段と、第2方向を任意の位置に設定する手段と、第1方向で位置決めされた基板を第2方向へ回転したときの該基板の前記平面内での位置ずれを算出する演算手段と、該算出結果に基づいて前記駆動手段を制御し前記第1方向で位置決めされた基板を移動および回転して第2方向で位置決めさせる第2の制御手段とを具備することを特徴とする基板搬送装置。
IPC (2):
FI (3):
H01L 21/68 A
, H01L 21/68 F
, H01L 21/30 514 D
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
-
位置決め装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-265718
Applicant:キヤノン株式会社
-
特開平4-249339
-
基板処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-178701
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
-
クラスタ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-289767
Applicant:富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
-
半導体ウエハの搬送方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-287544
Applicant:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
-
露光装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-324383
Applicant:キヤノン株式会社
-
基板処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-312842
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
Show all
Cited by examiner (7)
-
位置決め装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-265718
Applicant:キヤノン株式会社
-
特開平4-249339
-
基板処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-178701
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
-
クラスタ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-289767
Applicant:富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
-
半導体ウエハの搬送方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-287544
Applicant:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
-
露光装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-324383
Applicant:キヤノン株式会社
-
基板処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-312842
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
Show all
Return to Previous Page