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J-GLOBAL ID:200903072711419175
ガラス基板の加工方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (2):
大野 精市
, 大野 精市
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000350424
Publication number (International publication number):2002154846
Application date: Nov. 17, 2000
Publication date: May. 28, 2002
Summary:
【要約】【課題】光学素子の保持部材として用いられるV状溝を有する基板は温度変動による光学素子の光軸ずれを防止するため、熱膨張係数を任意に選定できることが望ましい。しかし従来のV状溝は結晶材料の異方性エッチングにより作製されているため、使用できる材料が限定されていた。【解決手段】本発明においては、ガラス基板1の表面7へレーザ光2を照射することによりV状溝6を形成する。その際、ガラス基板1の外側上方にレーザ光2を集光させ、その集光点4とガラス基板1の表面7との距離を変化させることによってV状溝の両側面のなす角度を変化させることができる。この角度の範囲は、30度から120度である。また本発明で用いるレーザ光は、パルス光であり、そのパルス幅は10ピコ秒以下であることが望ましい。
Claim (excerpt):
レーザ光照射によりガラス基板表面に凹部を形成するガラス基板の加工方法において、加工を施すガラス基板表面上方よりレーザ光を照射し、該レーザ光を前記ガラス基板の上方外側に集光させることを特徴とするガラス基板の加工方法。
IPC (2):
FI (3):
C03C 23/00 Z
, B23K 26/00 D
, B23K 26/00 G
F-Term (6):
4E068AD01
, 4E068CA11
, 4E068DB13
, 4G059AA08
, 4G059AB05
, 4G059AC01
Patent cited by the Patent: