新規なポリオルガノシルセスキオキサン及びその製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉村興作 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001149443
Publication number (International publication number)：2002348378
Application date： May. 18, 2001
Publication date： Dec. 04, 2002
Summary：

【要約】【課題】耐熱性、耐燃焼性及び柔軟性の優れたポリオルガノシルセスキオキサンを得る。また、分子量分布が小さく、分子量の調節及び高分子量化が可能であり、縮重合時にオリゴマーの構造欠陥及びランダムな構造による三次元的網目構造を形成せず、一般の有機溶媒に可溶である。【解決手段】以下の一般式を有するポリオルガノシルセスキオキサン。【化1】(式中、R1及びR2は、水素原子、炭素数1から30のアルキル基、炭素数5から30の置換または非置換芳香族基、炭素数1から30の置換または非置換アリル基、炭素数3から30の置換または非置換環状化合物残基、炭素数1から30の置換または非置換アシル基、ビニル基、アミン残基、または酢酸残基をそれぞれ独立に示し、nは1およびそれ以上の整数のうちいずれかを示す。)

Claim (excerpt)：

以下の一般式で表されるポリオルガノシルセスキオキサン。【化1】(式中、R1及びR2は、水素原子、炭素数1から30のアルキル基、炭素数5から30の置換または非置換芳香族基、炭素数1から30の置換または非置換アリル基、炭素数3から30の置換または非置換環状化合物残基、炭素数1から30の置換または非置換アシル基、ビニル基、アミン残基、または酢酸残基をそれぞれ独立に示し、nは1およびそれ以上の整数のうちいずれかを示す。)

IPC (2)：

C08G 77/08 , G03F 7/075 521

FI (2)：

C08G 77/08 , G03F 7/075 521

F-Term (14)：

2H025AA10 , 2H025AB17 , 2H025BC50 , 2H025CB33 , 4J035BA12 , 4J035CA01N , 4J035CA022 , 4J035CA032 , 4J035CA052 , 4J035CA102 , 4J035CA172 , 4J035CA192 , 4J035EB01 , 4J035EB03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

特開平3-227321
フェニルポリシルセスキオキサンの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-285149 Applicant：鐘淵化学工業株式会社
シラノール末端シルセスキオキサンラダーおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-321195 Applicant：鐘淵化学工業株式会社

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