Pat

J-GLOBAL ID：200903073598396127

蒸着ソースおよびそれを備えた蒸着装置

Inventor： 金 度根 ,  安 宰弘 ,  宋 官燮 ,  許 明洙 ,  鄭 錫憲
Applicant, Patent owner： 三星エスディアイ株式会社
Agent (2)： 亀谷 美明 ,  金本 哲男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005343974
Publication number (International publication number)：2006152441
Application date： Nov. 29, 2005
Publication date： Jun. 15, 2006
Summary：

【課題】蒸着率が一定であり,再現性の良い蒸着ソースおよびそれを備えた蒸着装置を提供すること。【解決手段】開口部を有する加熱容器13,23と,加熱容器13,23の開口部に結合される,加熱容器13,23の開口部の長手方向に沿って複数の孔17,27が形成されたカバー15,25と,を備え,加熱容器13,23の開口部の長手方向に沿って,カバー15,25に形成された互いに隣接した孔17,27間の距離が変わることを特徴とする蒸着ソースである。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

長方形の開口部を有する加熱容器と; 前記開口部に結合される,前記開口部の長手方向に沿って複数の孔が形成されたカバーと; を備え, 前記開口部の長手方向に沿って,前記開口部の中心からの距離に応じて,前記カバーに形成された互いに隣接した孔の間隔が変化することを特徴とする,蒸着ソース。

IPC (3)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (3)：

C23C14/24 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

F-Term (16)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA02 ,  4K029BA03 ,  4K029BA04 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029CA01 ,  4K029DB03 ,  4K029DB06 ,  4K029DB12 ,  4K029DB14 ,  4K029DB18

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 大韓民国公開特許公報2003-0070534号
  
• 大韓民国公開特許公報2003-0074224号
  

Cited by examiner (3)

• 有機発光デバイス製造用のコーティング方法及び細長い熱物理蒸着源
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-059808   Applicant：イーストマンコダックカンパニー
• 薄膜形成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-208032   Applicant：花王株式会社
• 基板をコーティングする装置のための蒸発器ボート
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-043145   Applicant：バルツァースウントライボルトドイチュラントホールディングアクチエンゲゼルシャフト