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J-GLOBAL ID:200903073841329018
欠陥検査装置、欠陥検査方法およびプログラム
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
松阪 正弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002294851
Publication number (International publication number):2004132721
Application date: Oct. 08, 2002
Publication date: Apr. 30, 2004
Summary:
【課題】基板上のパターンの欠陥を適切に検出する。【解決手段】基板上のパターンを示す参照画像および被検査画像を取得し、参照画像の画素値のヒストグラム62aに基づいて注目画素値範囲63を設定する。そして、注目画素値範囲63において傾きが大きい変換曲線71を求める。被検査画像および参照画像を変換曲線71にて示される変換特性を有するLUTにて変換し、変換後の被検査画像と変換後の参照画像との強調差分画像を生成し、強調差分画像の画素値を所定のしきい値と比較することにより欠陥画素を検出する。これにより、注目画素値範囲63の画素値を有する参照画像(または被検査画像)中の画素に対応する強調差分画像中の画素の値が強調され、適切な検査が実現される。【選択図】 図6
Claim (excerpt):
対象物上のパターンを検査する欠陥検査装置であって、
対象物を撮像して多階調の被検査画像のデータを取得する撮像部と、
参照画像のデータを記憶する記憶部と、
欠陥検出において注目する複数の注目画素値における任意の画素値の差を強調する変換特性を求める手段と、
前記変換特性に基づいて前記被検査画像と前記参照画像との強調差分画像を求める手段と、
前記強調差分画像に基づいて検査を行う手段と、
を備えることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (3):
G01N21/956
, G06T1/00
, H01L21/66
FI (3):
G01N21/956 A
, G06T1/00 305A
, H01L21/66 J
F-Term (32):
2G051AA51
, 2G051AA56
, 2G051AA65
, 2G051AA73
, 2G051AB02
, 2G051AC21
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051DA07
, 2G051EA08
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051EB01
, 2G051EC01
, 2G051EC02
, 2G051ED04
, 2G051ED08
, 2G051ED14
, 4M106AA01
, 4M106BA04
, 4M106BA10
, 4M106CA39
, 4M106DB19
, 4M106DB21
, 5B057AA03
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DB09
, 5B057DC32
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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特開平4-107945
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特開平4-107945
-
欠陥検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-174951
Applicant:三菱電機株式会社
-
ピストン表面評価装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-310028
Applicant:スズキ株式会社
-
画像におけるマーク部の欠陥検出方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-172979
Applicant:アジアエレクトロニクス株式会社
-
エンボステープのカバーテープ検査方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-106392
Applicant:新日本無線株式会社
-
特開昭56-107158
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パターン欠陥検出装置及びパターン欠陥検出方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-315772
Applicant:シャープ株式会社
-
パターンの欠陥検査方法およびその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-264275
Applicant:株式会社日立製作所
-
パターン検査方法及びその装置並びに基板の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-128954
Applicant:株式会社日立製作所
-
パターン検査装置、画像表示装置、パターン検査方法およびプログラム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-209208
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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